| 2016年 | |||||||
| 開催月 | 開催日 | テーマ | 研究会報告 | 開催地 | 担当委員（サブ）敬称略 | 共催 | 申込〆切 |
| 4月 | 8-9日 | 薄膜（Si,化合物,有機,フレキシブル）機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術および一般 | 沖縄 | OME | 終了 | ||
| 5月 | 19-20日 | 結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料)およびその他 | 静岡大学 | CPM, ED | 終了 | ||
| 6月 | 29日 | MOSデバイス・メモリ高性能化−材料・プロセス技術 （応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会との合同開催） | 東京 | 応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会 | 終了 | ||
| 8月 | 1-3日 | アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧/低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用 | 大阪 | ICD, SDM(共催) ITE-IST(連催) |
終了 | ||
| 10月 | 26-27日 | プロセス科学と新プロセス技術 | 東北大学 | 終了 | |||
| 11月 | 10-11日 | プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 | 東京 | 終了 | |||
| 12月 | 12日 | シリコン関連材料の作製と評価 | 奈良 | EID(共催) | 終了 | ||
| 2017年 | |||||||
| 1月 | 30-31日 | 回路・デバイス・境界領域技術 | 広島 | ICD, CPM, ED, EID, EMD, MR, OME, SCE, SDM(共催) QIT(併催) |
終了 | ||
| 1月 | 30日 | 先端CMOSデバイス・ プロセス技術（IEDM特集） | 東京 | 終了 | |||
| 2月 | 6日 | 配線・実装技術と関連材料技術 | 東京大学 | 終了 | |||
| 2月 | 24日 | 機能ナノデバイスおよび関連技術 | 北海道大学 | ED | 終了 | ||
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