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平成１５年４月　シリコン材料・デバイス研究会(SDM/ED/OME共催)プログラム
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専門委員長 徳光永輔 　　副委員長 渡辺重佳
幹事 赤澤正道・浅野種正 幹事補佐 平谷正彦


●日時　4月14日（月） 12:30〜18:00
　　　　　　　 15日（火）　9:00〜13:40

●会場　九州寿会館(福岡県飯塚市)
　　　　〒820-0068 福岡県飯塚市片島1-7-62
　　　　TEL: 0948-22-5138
　　　　http://www.fsc-go.co.jp/kasankyo/member/membersHP/kyu_gojo.html
　　　　ＪＲ新飯塚駅より車で約5分、または西鉄飯塚バスセンターより徒歩15分

●議題　-有機ELとTFT（シリコン、化合物、有機）およびディスプレイ技術-

−プログラム−

4月14日午後

1. 13:00〜13:40
[招待講演]次世代液晶デイスプレーとALTEDECにおける取り組み
○蕨迫光紀(液晶先端技開センター)

2. 13:40〜14:20
[招待講演]エキシマレーザーによるSi薄膜の結晶化過程
○栗山博之(三洋電機)

3.　14:20-14:50
エキシマ・レーザ再結晶化におけるpoly-Si薄膜作製--両面核生成の効果--
○河本直哉(山口大)・長谷川勲(三洋電機)・ファクルル・アンワル・松尾直人 (山口大学)・山野耕治・浜田弘喜・柴田賢一(三洋電機)

4.　15:00-15:30
CWレーザ結晶化によるガラス基板上の単結晶Si薄膜トランジスタの形成技術
○佐野泰之・竹井美智子・原　明人・佐々木伸夫（富士通研究所）

5.　15:30-16:00
パルス変調CWレーザ結晶化(SELAX)法による高移動度低温ポリSi-TFT
○山口伸也・波多野睦子・朴成基・田井光春・芝健夫（日立）

6.　16:00-16:30
絶縁膜上におけるSiGe薄膜の低温形成と次世代デイスプレー
○宮尾正信・角田　功・菅野裕士・長友圭・佐道泰造・権丈淳（九大）

7. 16:30-17:10
[招待講演]極薄シリコン膜結晶成長の分子動力学シミュレーション
○本岡輝昭（九大）

8. 17:10-18:00
[総合討議]「LTPSに有効な結晶化技術の課題と可能性」
（進行:野口隆 (成均大)）

（懇親会18:00〜）

4月15日午前

1.　9:00-9:40
[招待講演]有機EL素子の材料探索と有機薄膜製膜法
○藤田克彦・石川隆正・安田剛・筒井哲夫（九大）

2.　9:40-10:20
[招待講演]インクジェット印刷法によるポリマーTFTの作製
○川瀬健夫（セイコーエプソン）

3.　10:20-10:50
真空蒸着法によるポリジメチルシラン薄膜の作製と配向制御
大多英隆・古川昌司（九工大）

4. 10:50-11:20
ECRプラズマを活用した高品質絶縁膜の低温形成
○中島寛・王俊利・趙麗巍（九大）

5. 11:30-12:10
[招待講演]Cat-CVD a-Si膜のレーザアニール特性とpoly-Si TFTの作製
増田淳・余頃祐介・松村英樹（北陸先端大）・宮下一幸・下田達也（セイ コーエプソン）

6.　12:10-12:40
ELA法により形成されたpoly-Si薄膜中の水素の挙動--下地SiN基板の 水素分子濃度と結晶成長の関係--
河本直哉（山口大学）・増田淳（北陸先端大）・長谷川勲（三洋電機）・ファクルル・アンワル（山口大学）・余頃祐介（北陸先端大）・松尾直人（山口大学）・山野耕治（三洋電機）・松村英樹（北陸先端大）・ 浜田弘喜・柴田賢一（三洋電機）

7. 12:40-13:10
シランプラズマ中のクラスタ成長と薄膜形成
○白谷正治・古閑一憲・尾形隆則・掛谷知秀・鹿口直斗・渡辺征夫（九大）

8. 13:10-13:40
金属誘起横方向固相結晶化におけるSi単結晶細線の成長特性
○ 牧平憲治・浅野種正（九工大）

◎14日の研究会終了後に懇親会を予定しております。奮ってご参加ください。