| ■ 2018年5月研究会 ■ | ||
| 特集テーマ | 結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料)およびその他 | |
| 開催日 | 2018年5月24日(木)(開催日変更) | |
| 開催場所 | 豊橋技科大VBL | |
| プログラム | こちらをご覧ください 参加費について | |
| ■ 2018年6月研究会 ■ | ||
| 特集テーマ | MOSデバイス・メモリ高性能化−材料・プロセス技術 （応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会との合同開催） | |
| 開催日 | 2018年6月25日(月) | |
| 開催場所 | 名古屋大学 VBL３F | |
| プログラム | 決まり次第こちらに掲載されます 参加費について | |
| ■ 2018年8月研究会 ■ | ||
| 特集テーマ | アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧・低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用 | |
| 開催日 | 2018年8月7日(火)〜8月9日(木) | |
| 開催場所 | 北海道大学大学院情報科学研究科棟3F | |
| 発表申込締切 | 2018年6月12日(火) | |
| 発表申込 | 決まり次第こちらに掲載されます 参加費について | |
◆幹事
黒田 理人（東北大学）
rihito.kuroda.e3[atmark]tohoku.ac.jp
山口 直（ルネサスエレクトロニクス（株））
tadashi.yamaguchi.pz[atmark]renesas.com
◆幹事補佐
池田 浩也（静岡大学）
ikeda.hiroya[atmark]shizuoka.ac.jp
諸岡 哲（東芝メモリー株式会社）
tetsu.morooka[atmark]toshiba.co.jp
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