| ■ 2018年10月研究会 ■ | ||
| 特集テーマ | プロセス科学と新プロセス技術 | |
| 開催日 | 2018年10月17日(水)〜10月18日(木) | |
| 開催場所 | 東北大学未来情報産業研究館５Ｆ | |
| プログラム | こちらをご覧ください 参加費について | |
| ■ 2018年11月研究会 ■ | ||
| 特集テーマ | プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 | |
| 開催日 | 2018年11月8日(木)〜11月9日(金) | |
| 開催場所 | 機械振興会館 | |
| プログラム | こちらをご覧ください 参加費について | |
| ■ 2018年12月研究会 ■ | ||
| 特集テーマ | シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 | |
| 開催日 | 2018年12月25日(火) | |
| 開催場所 | 龍谷大学 響都ホール 校友会館 | |
| 発表申込締切 | 未定 | |
| 発表申込 | こちらをご覧ください 参加費について | |
◆幹事
黒田 理人（東北大学）
rihito.kuroda.e3[atmark]tohoku.ac.jp
山口 直（ルネサスエレクトロニクス（株））
tadashi.yamaguchi.pz[atmark]renesas.com
◆幹事補佐
池田 浩也（静岡大学）
ikeda.hiroya[atmark]shizuoka.ac.jp
諸岡 哲（東芝メモリー株式会社）
tetsu.morooka[atmark]toshiba.co.jp
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