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平成１４年１１月シリコン材料・デバイス研究会（ＳＤＭ）プログラム
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専門委員長 徳光永輔 副委員長 渡辺重佳
幹事 赤澤正道・浅野種正 幹事補佐 平谷正彦

日時　平成14年11月29日（金）　13:30〜16:45
会場　機械振興会館
議題　−特集：先端CMOS及びプロセス関連技術−

−プログラム−

１．テール関数に基づくイオン注入データベース
○鈴木邦広（富士通研）

２．Sub-100nm MOSFETのエクステンション領域におけるキャリア 　　分布評価　　　　
○福留秀暢・青山敬幸・有本宏（富士通研）

３．しきい値可変CMOS(VTCMOS)における反転層の有限厚さの影響
○南雲俊治・平本俊郎（東大）
４．DIBLを用いた低消費電力回路形式のための最適デバイス設計 　　　　　　　　　　　　
○劉慶艶・桜井貴康・平本俊郎（東大）

５．部分空乏型SOI CMOSのヒストリー効果の分類−擬似的完全空乏型動作−
○宝玉充（セイコーエプソン）

６．大容量メモリ混載システムLSI用低温プロセスの開発
○吉田英司・宮下俊彦・橋本浩一・田中徹・奈良安雄（富士通研）・
新田博行・田中正幸・石井賢・赤坂泰志・幸山裕亮 　（東芝）・
P.H.Chou（Winbond Electronics）

７．Rapid Themal Annealing処理時の酸素分圧がCoSi2ゲート配線特性に与える影響
○小椋充将・菅田安洋・堤聡明・小林清輝・米田昌弘（三菱電機）

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★SDM研究会今後の予定[　] 内は発表申込締切日
※詳しくはhttp://www.ieice.org/~sdm/jpn/index.htmlをご覧下さい。

　12月20日(金) 京都大学工学部電気総合館(京大本部キャンパス)
「シリコン関連材料の作製と評価」[10月18日(金)]

【発表申込・問合先】
　　赤澤正道（北海道大学）
　　TEL (011)706-6875, FAX (011)716-6004
　　E-mail：akazawa@rciqe.hokudai.ac.jp

　　浅野種正（九州工業大学）
　　TEL (0948)29-7582，FAX (0948)29-7586
　　E-mail：asano@cms.kyutech.ac.jp