【主　催】

広島大学　ﾅﾉﾃﾞﾊﾞｲｽ・ﾊﾞｲｵ融合科学研究所

　 ・米国電気化学会(ECS)日本支部（The Electrochemical Society (ECS) Japan Section）

　 ・IEEE SSCS Japan Chapter

【後  援】

　 ・東京大学大規模集積システム　設計教育研究センター(VDEC)

　 ・電気学会中国支部

　 ・情報処理学会中国支部

　 ・IEEE広島支部

　 ・電子情報通信学会中国支部

　 ・株式会社半導体理工学研究センター(STARC)

　 ・中国経済産業局

【日　時】

【会　場】

広島大学学士会館

（〒739-8527 広島県東広島市鏡山1-4-2　TEL: 082-424-6265）

【演　題】

『広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

　　　　　　国際ナノデバイステクノロジーワークショップ 2013

※講演は英語で行われます。

10：00-10：30  Opening

10：30-11：15 【基調講演】

　　　　　　　 講師：エール大学 Tso-Ping Ma 氏

　　　　　　　 講演演題：エール大学における

                         ナノデバイスプロセスの研究と教育

11：15-12：00 【基調講演】

　　　　　　　 講師：スタンフォード大学 教授Krishna Saraswat 氏

　　　　　　　 講演演題：集積回路デバイスプロセスの研究と教育

12：00-14：00  昼食

14：00-14：45 【基調講演】

　　　　　　　 講師：インテル シニアフェロー　Mark Bohr 氏

　　　　　　　 講演演題：CMOS モバイルプロセッサーのテクノロジースケーリング

14：45-15：15 【招待講演】

　　　　　　　 講師：ハーバード大学 教授Donhee Ham 氏

　　　　　　　 講演演題：動力学インダクタンスとメタマテリアル

15：15-15：45 【招待講演】

　　　　　　　 講師：広島大学 教授　秀 道広氏

　　　　　　　 講演演題：表面プラズモン共鳴を用いた

　　　　　　　　　　　 　生きている細胞の解析

15：45-16：15 【招待講演】

　　　　　　 　講師：広島大学 助教　池田 丈 氏

　　　　　　 　講演演題：シリコン結合タンパク質による

　　　　　　 　　　　　　バイオエレクトロニクスの研究

16：15-17：30 【総合討論】

　　　　　　  「シリコンデバイスプロセス研究は必要か？（予定）」

　　　　　　   オーガナイザ　鳥海　明　（東京大学 教授）

　　　　　　   パネリスト　　Tso-Ping Ma （エール大学 教授）

　　　　　　　　　　　　 　  Krishna Saraswat （スタンフォード大学 教授）

　　　　　　　　　　　　　   Mark Bohr （インテル シニアフェロー）

17：30-18：30  ポスターセッション

【事前申込み】

有

申込み・詳細は下記のホームページよりお願いします。

【ホームページ】http://www.RNBS.hiroshima-u.ac.jp/iwnt2013.html

【連絡先】