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★シリコン材料・デバイス研究会（SDM） 専門委員長 大野 裕三 (筑波大) 副委員長 国清 辰也 (ルネサス エレクトロニクス) 幹事 黒田 理人 (東北大) 幹事補佐 山口 直 (ルネサス エレクトロニクス) 日時 2015年10月29日(木) 14：00～17：20 2015年10月30日(金) 09：30～16：00 会場 東北大学未来科学技術共同研究センター 未来情報産業研究館５Ｆ（〒980-8579 宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉6-6-10．http://www.fff.niche.tohoku.ac.jp/contactus.html．東北大学大学院工学研究科 黒田 理人．022-795-4833） 議題 プロセス科学と新プロセス技術 10月29日(木) 午後 （14：00～17：20） (1) 14:00 - 14:50 ［招待講演］イオン注入技術の現状と課題 ○中島良樹・濱本成顕・酒井滋樹・おの田 博（日新イオン機器） (2) 14:50 - 15:20 Ar/H2混合ガス熱処理によるSi表面平坦化プロセスの検討 ○工藤聡也・大見俊一郎（東工大） (3) 15:20 - 15:50 Xe/H2プラズマを用いたシリコン基板表面の低温平坦化技術 ○諏訪智之・寺本章伸・後藤哲也・平山昌樹・須川成利・大見忠弘（東北大） −−− 休憩 （ 10分 ） −−− (4) 16:00 - 16:30 Electrical Properties of MOSFETs Introducing Atomically Flat Gate Insulator/Silicon Interface ○Tetsuya Goto・Rihito Kuroda・Tomoyuki Suwa・Akinobu Teramoto・Toshiki Obara・Daiki Kimoto・Shigetoshi Sugawa（Tohoku Univ.）・Yutaka Kamata・Yuki Kumagai・Katsuhiko Shibusawa（LAPIS Semi. Miyagi） (5) 16:30 - 17:20 ［招待講演］フラッシュメモリとCMOSロジックの近接混載技術による低消費電力・高速FPGA ○財津光一郎・辰村光介・松本麻里・小田聖翔・安田心一（東芝） 10月29日(木) 午後 平成26年度シリコン材料・デバイス研究専門委員会若手優秀発表賞 表彰式 （17：20～17：20） −−− 懇親会 （ 100分 ） −−− 10月30日(金) 午前 （09：30～11：20） (6) 09:30 - 10:20 ［招待講演］マイクロ波励起プラズマによる立体構造体への等方均一注入技術 ○上田博一（TEL TDC）・ピーター ベントゼック（TEL AMERICA）・岡 正浩・小林勇気・杉本靖広・川上 聡（TEL TDC） (7) 10:20 - 10:50 トンネル電流・拡散電流併用MOSFETのデバイスシミュレーション検討 ○古川貴一・寺本章伸・黒田理人・諏訪智之・橋本圭市・小尻尚志・須川成利（東北大） (8) 10:50 - 11:20 酸素ラジカル処理を用いた強誘電体BiFeO3薄膜の形成技術 ○今泉文伸・後藤哲也・寺本章伸・須川成利（東北大） −−− 昼食 （ 100分 ） −−− 10月30日(金) 午後 （13：00～16：00） (9) 13:00 - 13:50 ［招待講演］大画面シート型ディスプレイ実現に向けたディスプレイ材料・プロセス技術 ○藤崎好英（NHK） (10) 13:50 - 14:20 HfO2をゲート絶縁膜に用いたペンタセンOFETのデバイス特性に関する検討 ○前田康貴・劉 野原・大見俊一郎（東工大） −−− 休憩 （ 10分 ） −−− (11) 14:30 - 15:00 窒素添加LaB6ターゲットによる低仕事関数LaB6スパッタ薄膜の形成 ○石井秀和（東北大）・高橋健太郎（住友大阪セメント）・後藤哲也・須川成利・大見忠弘（東北大） (12) 15:00 - 15:30 Investigation of stacked HfN gate insulator formed by ECR plasma sputtering ○Nithi Atthi・Shun-ichiro Ohmi（Tokyo Tech） (13) 15:30 - 16:00 高精度ガス制御器を用いたAl2O3のALD成膜におけるプロセス温度の検討 ○杉田久哉・幸田安真・諏訪智之・黒田理人・後藤哲也・石井秀和（東北大）・山下 哲（フジキン）・寺本章伸・須川成利・大見忠弘（東北大） 一般講演：発表 25 分 ＋ 質疑応答 5 分 招待講演：発表 40 分 ＋ 質疑応答 10 分 ☆SDM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日 11月5日(木)～6日(金) 機械振興会館 [9月11日(金)] テーマ：プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 12月14日(月) 龍谷大学 響都ホール 校友会館 [10月9日(金)] テーマ：シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 2016年1月22日(金) 東京大学 山上会館 [11月11日(水)] テーマ：配線・実装技術と関連材料技術 2016年1月28日(木) 機械振興会館 [未定] テーマ：先端ＣＭＯＳデバイス・ プロセス技術（ＩＥＤＭ特集） 【問合先】 黒田 理人(東北大) Tel 022-795-4833 Fax 022-795-4835 E-mail:        e3   Last modified: 2015-08-27 17:09:23 |
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