お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
研究会 開催プログラム
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップ  戻る   前のCPM研究会 / 次のCPM研究会 [HTML] / [HTML(simple)] / [TEXT]  [Japanese] / [English] 

★電子部品・材料研究会(CPM)
専門委員長 廣瀬 文彦 (山形大)  副委員長 武山 真弓 (北見工大)
幹事 岩田 展幸 (日大), 中村 雄一 (豊橋技科大)
幹事補佐 赤毛 勇一 (NTTデバイスイノベーションセンタ)

日時 2017年 7月21日(金) 13:30~17:40
   2017年 7月22日(土) 09:30~12:13

会場 北見工業大学第一総合研究棟2F多目的講義室(〒090-8507 北海道北見市公園町165番地.http://www.kitami-it.ac.jp/about/access/)

議題 電子部品・材料、一般

7月21日(金) 午後 北見工業大学第一総合研究棟2F多目的講義室 (13:30~17:40)

(1) 13:30 - 13:48
オホーツク地域の食肉に関する電気的特性評価
○山下貴央・武山真弓・佐藤 勝(北見工大)

(2) 13:48 - 14:06
反応性スパッタ法によるTiNx膜の低温作製
○佐藤 勝・武山真弓(北見工大)

(3) 14:06 - 14:24
sol-gel法によるZnO薄膜作製に関する研究
○菅沼幸雄・高野 泰(静岡大)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(4) 14:39 - 14:57
光変調を目指したPZT-Bi:RIGマルチフェロイック複合膜の作製と評価
○秋山直紀・後藤太一・高木宏幸・中村雄一・林 攀梅・内田裕久・井上光輝(豊橋技科大)

(5) 14:57 - 15:15
第一原理計算を用いたCa3Co4O9の電子状態に及ぼす元素置換の影響
○小林大悟(豊橋技科大)・谷林 慧(一関高専)・中村雄一・内田裕久・井上光輝(豊橋技科大)

(6) 15:15 - 15:33
溶液成長法を用いたSnS膜形成法に関する基礎検討
○野毛 悟(沼津高専)

(7) 15:33 - 15:51
集積型光アイソレータ実現のための磁気光学薄膜形成条件の検討
○白鳥大毅・野毛 悟(沼津高専)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(8) 16:06 - 16:24
電子型強誘電体YbFe2O4薄膜の作製と化学当量性の評価
○永田知子・小野寺 巧・山本 寛・岩田展幸(日大)

(9) 16:24 - 16:42
CaFeOx/LaFeO3人工超格子界面に現れる誘起強磁性とその起源
大橋祥平・松山祐貴・赤澤孝徳・宋 華平・小山知之・岡本卓也・舘野友優・永田知子・山本 寛・○岩田展幸(日大)

(10) 16:42 - 17:00
BiFe1-xMnxO3単相膜及び[CaFeOx/BiFe1-xMnxO3]人工超格子の面直方向に関する電気特性
松山裕貴・大橋祥平・小山智之・赤澤孝徳・宋 華平・館野友優・岡本卓也・永田知子・山本 寛・○岩田展幸(日大)

(11) 17:00 - 17:40
[招待講演]電子材料研究に関わる私的40年史
○山本 寛(日大)

7月22日(土) 午前 北見工業大学第一総合研究棟2F多目的講義室 (09:30~12:13)

(12) 09:30 - 09:48
触媒反応支援CVD法におけるパルスガス供給によるZnO結晶膜の単分子層成長制御
斎藤太朗・小野翔太郎・伊庭竜太・○安井寛治(長岡技科大)

(13) 09:48 - 10:06
SOI基板上へのフォトニック結晶共振器の形成と量子ドットの発光特性
○松冨俊貴・林 武司・渡邊航大・玉山泰宏・加藤有行・安井寛治(長岡技科大)

(14) 10:06 - 10:24
Fe支援化学溶液析出法によるCu2O薄膜の成長と表面モフォロジー
○寺迫智昭・岡田英之・小原翔平(愛媛大)

(15) 10:24 - 10:42
交互原料供給法による酸化スズおよびβ酸化ガリウムナノワイヤーのVLS成長とフォトルミネッセンス特性
○寺迫智昭・河野幸輝(愛媛大)・矢木正和(香川高専)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(16) 10:57 - 11:15
Al添加ZnOターゲットとスパッタ法により作製される薄膜の関係性の検討
○清水英彦・岩野春男・川上貴浩・福嶋康夫・永田向太郎(新潟大)

(17) 11:15 - 11:33
室温原子層堆積法を用いた酸化ニオブの試作と評価
○野老健太郎・鹿又健作・三浦正範・有馬 ボシール アハンマド・久保田 繁・廣瀬文彦(山形大)

(18) 11:33 - 12:13
[招待講演]薄膜電子材料開発のための低ダメージスパッタ成膜技術開発の歩み
○星 陽一(東京工芸大)

一般講演:発表 12 分 + 質疑応答 6 分
招待講演:発表 30 分 + 質疑応答 10 分


☆CPM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

8月31日(木)~9月1日(金) 弘前文化センター [6月19日(月)] テーマ:光部品・電子デバイス実装・信頼性、一般(OECC報告)
10月4日(水) 機械振興会館 [8月4日(金)] テーマ:光記録技術・電子材料,一般
10月27日(金)~28日(土) 信州大学 長野(工学)キャンパス E7棟 3階 研修室 [8月18日(金)] テーマ:機能性材料(半導体、磁性体、誘電体、透明導電体・半導体、等)薄膜プロセス/材料/デバイス,一般


Last modified: 2019-07-22 14:51:05


ご注意: 迷惑メール対策のためメールアドレスの一部の文字を置換しております.ご了承ください.

[この開催に関する講演論文リストをダウンロードする] ※ こちらのページの最下にあるダウンロードボタンを押してください
 
[研究会資料インデックス(vol. no.ごとの表紙と目次)]
 

[研究会発表・参加方法,FAQ] ※ ご一読ください
 

[CPM研究会のスケジュールに戻る]   /  
 
 トップ  戻る   前のCPM研究会 / 次のCPM研究会 [HTML] / [HTML(simple)] / [TEXT]  [Japanese] / [English] 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会