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CRESTプログラム「超絶縁性脂質二分子膜に基づくイオン・電子チャネルの創成（東北大学）」と共催します。

★電子デバイス研究会（ED）
専門委員長　原直紀 (富士通研)　　副委員長　前澤宏一 (富山大)
幹事　葛西誠也 (北大)，松永高治 (NEC)
幹事補佐　鈴木寿一 (北陸先端大)，新井学 (新日本無線)

日時　2015年 4月16日(木)　13：30～17：35
　　　2015年 4月17日(金)　09：30～12：10

会場東北大学電気通信研究所ナノスピン実験施設（〒980-8577 仙台市青葉区片平2-1-1．地下鉄「五橋駅」下車。北2番の出入口より地上へ、徒歩約8分。http://130.34.211.10/index-j.html．東北大学大学院医工学研究科医工学専攻．022-795-4866）

議題有機デバイス・酸化物デバイス・一般

4月16日(木) 午後（13：30～17：35）

(1) 13:30 - 13:55
印刷型有機薄膜トランジスタの閾値電圧制御と回路応用
○塩飽　黎・吉村悠大・竹田泰典（山形大）・福田　貴（東ソー）・福田憲二郎（山形大/JST）・熊木大介・時任静士（山形大）

(2) 13:55 - 14:20
F4-TCNQを用いたP3HTパターン薄膜を電極に用いた全有機型トランジスタの作製
○但木大介・馬　騰（東北大）・木村康男（東京工科大）・庭野道夫（東北大）

(3) 14:20 - 14:45
有機薄膜太陽電池の発電性能の安定化
○原田佳宜・永瀬拓人・鹿又健作・有馬ボシールアハンマド（山形大）・水野　潤（早大）・久保田　繁・廣瀬文彦（山形大）

(4) 14:45 - 15:10
色素増感太陽電池フォト電極のハフニアコーティング効果
○今井貴大・加藤祐樹・有馬ボシールアハンマド・久保田　繁・廣瀬文彦（山形大）

−−−　休憩　（ 20分）　−−−

(5) 15:30 - 15:55
色素増感太陽電池フォト電極のSiO2およびTiO2処理効果
○加藤祐樹・今井貴大・鹿又健作・有馬ボシールアハンマド・久保田　繁・廣瀬文彦（山形大）

(6) 15:55 - 16:20
有機太陽電池用反射防止膜の最適設計の高速化
○辻岡壮季・久保田　繁・有馬ボシールアハンマド（山形大）・水野　潤（早大）・廣瀬文彦（山形大）

(7) 16:20 - 16:45
The bulk and interface of organolead halide perovskite layer in highly efficient perovskite solar cells
-- An infrared study --
○Teng Ma・Ayumi Hirano-Iwata・Michio Niwano（Tohoku Univ.）

(8) 16:45 - 17:10
微細加工シリコン基板に基づくイオンチャネル機能の再構成
○平野愛弓・山本英明（東北大）・木村康男（東京工科大）・庭野道夫（東北大）

(9) 17:10 - 17:35
グラフェン酸化物上に形成した人工脂質二重膜の構造・物性評価
岡本吉晃・茂木俊憲・岩佐精二・サンドゥーアダルシュ・○手老龍吾（豊橋技科大）

4月17日(金) 午前（09：30～12：10）

(10) 09:30 - 09:55
赤外分光法によるナノバブルの表面洗浄効果のその場観察
齋藤栄幸・馬　騰・○山本英明・平野愛弓・庭野道夫（東北大）

(11) 09:55 - 10:20
加湿酸素プラズマガスを用いた酸化ハフニウム膜の室温原子層堆積の反応機構
○鹿又健作・大場尚志・パンシラポープンブン・有馬ボシールアハンマド・久保田　繁・平原和弘・廣瀬文彦（山形大）

−−−　休憩　（ 10分）　−−−

(12) 10:30 - 10:55
量子ドット及びDH6Tドーピングによる有機太陽電池の発電効率の向上
○有馬ボシールアハンマド・宮下祐太・鹿又健作・久保田　繁・廣瀬文彦（山形大）

(13) 10:55 - 11:20
微小Alトンネル接合列内での接合特性の均一性向上を目指したSiO援用Dolan法の提案と評価
徳山貴斗・島田　宏・○水柿義直（電通大/CREST JST）

(14) 11:20 - 11:45
局所陽極酸化ナノファブリケーション技術
○木村康男（東京工科大）・平野愛弓・庭野道夫（東北大）

(15) 11:45 - 12:10
生体膜の原子間力顕微鏡による評価
○荻野俊郎（横浜国大/JST）・横田圭司・木村僚佑・坂口直駿（横浜国大）・松村幸子・菅　加奈子・芝　清隆（がん研）・木村康男（東京工科大/JST）・平野愛弓（東北大/JST）

一般講演：発表 20 分＋質疑応答 5 分

◆JST CREST 「超絶縁性脂質二分子膜に基づくイオン・電子ナノチャネルの創成」共催

☆ED研究会今後の予定　[ ]内発表申込締切日

5月28日(木)～29日(金)　豊橋技科大VBL棟　[3月24日(火)]　テーマ：結晶成長、評価及びデバイス（化合物、Si、SiGe、電子・光材料）
7月24日(金)～25日(土)　ITビジネスプラザ武蔵研修室1(金沢市武蔵町)　[6月5日(金)]　テーマ：半導体プロセス・デバイス(表面、界面、信頼性)、一般

【問合先】
新井学 (新日本無線)
TEL：049-278-1441 Fax : 049-278-1226
E-mail：