平成１３年8月電子情報通信学会ＣＰＭ研究会開催のご案内
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専門委員長 山本 寛 副委員長 星 陽一
幹事 日比野善典、安井寛治
日時 ８月２日（木） 13:00〜16:15
３日（金） 10：00〜11:40
会場 室蘭工業大学A249講義室 （北海道室蘭市水元町27-1）
(1)ＪＲ東室蘭駅東口より，徒歩約４分（駅前の道をまっすぐ進む）「東町中央」か
ら道南バス「工大」行き(循環線)に乗車，「工大」下車（約２０分）
(2)ＪＲ東室蘭駅東口より，徒歩約７分（駅前の道をまっすぐ進む）「東町ターミナ
ル」３・４番乗場から，道南バス「工 大」行き（循環線）に乗車，「工大」下車．
(3)タクシーで鷲別駅から約４分．東室蘭駅西口から約１０分．TEL(0143)-46-5549福
田 永
議題 ― 電子部品・材料、一般 ―
8月２日午後
1．有機金属分解による酸化チタン薄膜の構造と電気的特性
〇前田真一・福田 永・野村 滋（室蘭工大）
２．有機金属分解による酸化イットリウム薄膜の構造と電気的特性
〇本間俊平・福田 永・野村 滋（室蘭工大）
3．ストレスマイグレーションに起因する空孔の基本的な振る舞い
〇青柳 稔（苫小牧高専）
4．(111)Si上にエピタキシャル成長させた(111)HfN膜と(111)Cu/(111)HfN積層膜の
AFM観察
〇新海聡子（日本学術振興会）、佐々木克孝（北見工大）
5．シリコン酸化膜中のゲルマニウム微結晶における光学および電気的特性
〇松永慎一・福田 永・野村 滋（室蘭工大）、西野元一（道職能大）
6．スパッタ法により作製したインジウム添加硫化亜鉛膜の構造と電気的特性
〇菅原智明・下野 功（道工技センター）、福田 永（室蘭工大）、吉野正樹・
西野元一（道職能大）、野村 滋（室蘭工大）
7．白金−酸化タングステンゲートMOSFET型COガスセンサの応答特性
〇長堀哲也・福田 永・野村 滋（室蘭工大）
8月３日午前
1．ジメチルシランを用いた3C-SiC成長初期過程のRHEED観察
〇犬伏宗和・成田 克・安井寛治・赤羽正志（長岡技科大）
2．低温成膜したITO薄膜の微細構造
〇星 陽一・清村貴利（東京工芸大）
3．有機金属分解による酸化タンタル薄膜の構造と電気的特性
〇小西秀和・福田 永・野村 滋（室蘭工大）
4．有機金属分解によるチタン酸鉛薄膜の構造と電気的特性
〇木村健志・福田 永・野村 滋（室蘭工大）
◎２日研究会終了後、懇親会を企画しております。奮ってご参加ください。
☆電子部品・材料(CPM)研究会今後の予定 〔 〕内発表申込締切日
8月23日（木），24日（金） 東北大 「光部品・電子デバイス，実装技術，一般」(
LQE,OPE,EDM研究会共催) 〔締切済〕
9月21日（金） 機械振興会館 「光記録技術，一般」 〔7月19日(木)〕
10月11日（木），12日（金） 大阪大 「化合物混晶半導体デバイス・材料，一般（
含むワイドギャップ）」(ED研究会共催) 〔7月19日(金)〕
【発表申込・問合先】
日比野善典（NTT） TEL: 029-287-7585 FAX: 029-287-7868 E-mail:
yhibino
iba.iecl.ntt.co.jp安井寛治（長岡技科大）TEL: 0258-47-9502 FAX: 0258-47-9500 E-mail:
kyasui
vos.nagaokaut.ac.jp会場世話人
〒050-8585 北海道室蘭市水元町27-1
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
福田 永（ふくだひさし）様
TEL(0143)46-5549(DI)，
FAX(0143)46-5501
E-mail：fukuda
mmm.muroran-it.ac.jp