| 講演名 | 2015-01-29 UV光直接描画法を用いたPMMA平面光導波路作製における2段階照射による深さ方向の屈折率分布制御(光-無線融合NW、新周波数(波長)帯デバイス、フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、一般) 滝沢 晃宏, 堀内 礼子, 塙 雅典, |
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| 抄録(和) | PMMA(Poly-Methyl Methacrylate)は紫外(UV)光照射によって試料表面層に屈折率上昇が生じる.UV光照射でコアを形成することによって,PMMA平面光導波路作製が可能である.これまでに,強度マスクを用いた平面光導波路作成例が報告されているが,本報告では細径UV光ビームを用いたマスクレスのUV光直接描画法を用いた導波路作製においてコアの深さ方向の制御を行うために2段階でUV光を照射する方法について報告する.平面光導波路作製にあたり,UV光照射量に対する屈折率上昇率をエリプソメータを用いて調査し,その結果から直接描画法と2段階照射によるPMMA基板上への導波路作製した.作製した導波路の透過光強度分布を求めることで深さへの影響を40μm程度抑えたことを報告する. |
| 抄録(英) | Refractive index increase on PMMA (Poly-Methyl Methacrylate) surface produced by ultraviolet light can be used to form planer lightwave circuit (PLC) on the PMMA sample and formulation of curved waveguides and Mach-Zehnder interferometers using a fine intensity mask was reported so far. To increase in degree of freedom of waveguide formulation, the authors have investigated direct drawing of PMMA-PLC using thin UV beams from a Kr-F excimer laser without any intensity masks. In this report, a trial on waveguide depth control of PMMA-PLCs introducing a two-step irradiation process in the direct drawing is reported. Firstly the amount of refractive index increase on PMMA surface by UV light irradiation measured by using an ellipsometer is reported, then the effect of the two-step irradiation process on the waveguide depth is reported. The experimental results show that the waveguide depth is successfully suppressed within 40 μm by the two-step irradiation process. |
| キーワード(和) | PMMA / UV光直接描画 / 平面光導波路 |
| キーワード(英) | PMMA / UV light direct drawing / planar waveguides |
| 資料番号 | PN2014-28,OPE2014-153,LQE2014-140,EST2014-82,MWP2014-50 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MWP |
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| 開催期間 | 2015/1/22(から1日開催) |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Microwave and Millimeter-wave Photonics (MWP) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | UV光直接描画法を用いたPMMA平面光導波路作製における2段階照射による深さ方向の屈折率分布制御(光-無線融合NW、新周波数(波長)帯デバイス、フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Waveguide depth control of PMMA-PLCs by two-step irradiation in UV direct drawing |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | PMMA / PMMA |
| キーワード(2)（和/英） | UV光直接描画 / UV light direct drawing |
| キーワード(3)（和/英） | 平面光導波路 / planar waveguides |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 滝沢 晃宏 / Akihiro TAKIZAWA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山梨大学 University of Yamanashi |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 堀内 礼子 / Reiko HORIUCHI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山梨大学 University of Yamanashi |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 塙 雅典 / Masanori HANAWA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 山梨大学 University of Yamanashi |
| 発表年月日 | 2015-01-29 |
| 資料番号 | PN2014-28,OPE2014-153,LQE2014-140,EST2014-82,MWP2014-50 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | 434 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |