講演名 2014-12-18
光学フィルタへの応用に向けた金属2次元回折格子構造の作製と光学特性評価(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),半導体レーザ関連技術,シリコンフォトニクス,一般)
鬼頭 壮宜, 元垣内 敦司, 三宅 秀人, 平松 和政,
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抄録(和) 従来技術に変わる熱線遮蔽対策として,可視光は透過,赤外光は反射を同時に達成するコールドフィルタを実現するために,金属2次元回折格子を電子線リソグラフィ技術とリフトオフ工程を利用して作製し、分光器を用いて光学特性評価を行った.その結果,リフトオフ工程を省略して作製できる2層型2次元回折格子の周期800nmにおいて,可視光全体で0次光の反射率の減少が見られた.また,2層間間隔と反射率・透過率の関係を調べることによって, 2層間間隔が狭くなるとAu薄膜に特性が近くなり,反射スペクトルの極小・極大を持つ波長がシフトしていくことが分かった.
抄録(英) As heat-ray shielding steps replacing conventional technique, we fabricated the 2D metal grating structure by electron beam lithography and lift-off process and evaluated its optical characteristics for substantiating the cold filter which achieve simultaneously the visible light is transmitted and the infrared ray is reflected. As the result, bilayer 2D metal grating which is able to fabricate by omitting lift-off process with period 800nm decreased reflectance of the 0th diffracted light over the whole visible light. Moreover, by examining the relation between separation and its reflectance and transmittance, we showed that the spectra of reflectance and transmittance are close to that of Au thin film and the wavelengths with minimum and maximum shift, as narrowing space between top and bottom Au layer.
キーワード(和) 金属2次元回折格子 / 光学フィルタ / 反射率 / 透過率
キーワード(英) 2D metal grating / Optical Filter / Reflectance / Transmittance
資料番号 OPE2014-141,LQE2014-128
発行日

研究会情報
研究会 LQE
開催期間 2014/12/11(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Lasers and Quantum Electronics (LQE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 光学フィルタへの応用に向けた金属2次元回折格子構造の作製と光学特性評価(光パッシブコンポネント(フィルタ,コネクタ,MEMS),半導体レーザ関連技術,シリコンフォトニクス,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Fabrication of the 2D metal grating structure for the application to an optical filter and optical characterization
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 金属2次元回折格子 / 2D metal grating
キーワード(2)(和/英) 光学フィルタ / Optical Filter
キーワード(3)(和/英) 反射率 / Reflectance
キーワード(4)(和/英) 透過率 / Transmittance
第 1 著者 氏名(和/英) 鬼頭 壮宜 / Masanori Kito
第 1 著者 所属(和/英) 三重大院工
Mie University
第 2 著者 氏名(和/英) 元垣内 敦司 / Atsushi Motogaito
第 2 著者 所属(和/英) 三重大院工:三重大極限ナノエレセンター
Mie University:The Center of Ultimate Technology on nano-Electronics
第 3 著者 氏名(和/英) 三宅 秀人 / Hideto Miyake
第 3 著者 所属(和/英) 三重大院工:三重大極限ナノエレセンター
Mie University:The Center of Ultimate Technology on nano-Electronics
第 4 著者 氏名(和/英) 平松 和政 / Kazumasa Hiramatsu
第 4 著者 所属(和/英) 三重大院工:三重大極限ナノエレセンター
Mie University:The Center of Ultimate Technology on nano-Electronics
発表年月日 2014-12-18
資料番号 OPE2014-141,LQE2014-128
巻番号(vol) vol.114
号番号(no) 378
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日