| 講演名 | 2014-12-12 水蒸気を用いたプラズマ誘起原子層堆積法によるAl_2O_3膜の形成(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術) 梅原 智明, 堀田 昌宏, 吉嗣 晃治, 石河 泰明, 浦岡 行治, |
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| 抄録(和) | 水蒸気を原料として発生させたプラズマを用いてAl_2O_3絶縁膜を原子層堆積法(Atomic Layer deposition, ALD)により堆積した.Al_2O_3を用いてMIMキャパシタを作製し,絶縁破壊試験を行った.その結果,従来の熱ALDによるAl_2O_3膜と比べ,リーグ電流の低減および絶縁破壊電界の向上が確認できた.またプラズマ印加時間を適切に選択することでプラズマの発行分光計測において,水蒸気を原料とするプラズマ活性種が存在していることが確認され,このプラズマ種が反応に寄与することが示唆された. |
| 抄録(英) | In this paper, we reported Al_2O_3 insulation film deposited by atomic layer deposition(ALD) for application of GaN power devices. In the ALD for Al_2O_3 film deposition, we use plasma originated from water vapor for the oxidation process. We confirmed that the water vapor plasma assisted ALD leads to an increase in breakdown field compared with the conventional thermal-ALD Al_2O_3 film. Optical emission spectrometry reveals that active species originated form water vapor were generated, which contributes to the reaction. |
| キーワード(和) | プラズマ誘起原子層堆積法 / Al_2O_3 / 水蒸気プラズマ |
| キーワード(英) | Plasma assisted-atomic layer deposition / Al_2O_3 / water vapor plasma |
| 資料番号 | EID2014-36,SDM2014-131 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EID |
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| 開催期間 | 2014/12/5(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electronic Information Displays (EID) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 水蒸気を用いたプラズマ誘起原子層堆積法によるAl_2O_3膜の形成(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Atomic Layer Deposition of Al_2O_3 Film Utilizing Water Vapor Plasma Oxidation |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | プラズマ誘起原子層堆積法 / Plasma assisted-atomic layer deposition |
| キーワード(2)（和/英） | Al_2O_3 / Al_2O_3 |
| キーワード(3)（和/英） | 水蒸気プラズマ / water vapor plasma |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 梅原 智明 / Tomoaki UMEHARA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 Nara Institute of Science and Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 堀田 昌宏 / Masahiro HORITA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 Nara Institute of Science and Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 吉嗣 晃治 / Koji YOSHITSUGU |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 Nara Institute of Science and Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 石河 泰明 / Yasuaki ISHIKAWA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 Nara Institute of Science and Technology |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 浦岡 行治 / Yukiharu URAOKA |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 Nara Institute of Science and Technology |
| 発表年月日 | 2014-12-12 |
| 資料番号 | EID2014-36,SDM2014-131 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | 359 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |