講演名 2014-12-12
シングルパルスI_d-V_測定による4H-SiC MOSFETの界面特性評価(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)
磯野 弘典, 矢野 裕司,
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抄録(和) シリコンカーバイド(SiC)-MOSFETは,多量の界面準位(D_)によるしきい値電圧(V_)の変動や,低いチャネル移動度が課題となっている.I_d-V_から測定は,一般的に直流電圧をゲート電極に印加して掃引することで行われるが,ゲート電圧印加中に界面準位や酸化膜中の欠陥に電子がトラップされることにより電気特性が変動することが指摘されている.本研究では,トラップがトレイン電流に与える影響をより正確に評価するため,電圧印加時間を制御できるシングルパルス電圧を用いたI_d-V_測定を行い,MOS界面特性評価を行った.
抄録(英) SiC MOSFETs have suffered from issues such as threshold voltage instability and low channel mobility due to high interface trap density. Generally, I_d-V_ characteristics of MOSFETs are measured by applying DC voltage to the gate electrode. It has been pointed out that the electron trapping at the interface or oxide defects during electrical measurements brings fluctuations in electrical properties. In this work, we evaluated SiC MOS interface properties by using single pulse I_d-V_ measurements, which enable to measure I_d-V_ characteristics during rise and fall times of the single pulse and evaluate the drain current decrement.
キーワード(和) 4H-SiC / MOS / 界面特性 / シングルパルスI_d-V_
キーワード(英) 4H-SiC / MOS / interface characterization / single pulse I_d-V_
資料番号 EID2014-34,SDM2014-129
発行日

研究会情報
研究会 EID
開催期間 2014/12/5(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electronic Information Displays (EID)
本文の言語 JPN
タイトル(和) シングルパルスI_d-V_測定による4H-SiC MOSFETの界面特性評価(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Interface Characterization of 4H-SiC MOSFETs by Single Pulse I_d-V_ Measurements
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 4H-SiC / 4H-SiC
キーワード(2)(和/英) MOS / MOS
キーワード(3)(和/英) 界面特性 / interface characterization
キーワード(4)(和/英) シングルパルスI_d-V_ / single pulse I_d-V_
第 1 著者 氏名(和/英) 磯野 弘典 / Kosuke ISONO
第 1 著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学
Nara Institute of Science and Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 矢野 裕司 / Hiroshi YANO
第 2 著者 所属(和/英) 筑波大学
University of Tsukuba
発表年月日 2014-12-12
資料番号 EID2014-34,SDM2014-129
巻番号(vol) vol.114
号番号(no) 359
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日