| 講演名 | 2014-12-12 軟X線源を用いたSiO_x中nc-Siの形成(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術) 草壁 史, 平野 翔太, 部家 彰, 松尾 直人, 神田 一浩, 望月 孝晏, 宮本 修治, 小濱 和之, 伊藤 和博, |
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| 抄録(和) | SiO_x中に低温でナノ結晶Si(nc-Si)を形成することは、高効率太陽電池実現にとって重要な技術の一つである。我々はシンクロトロン放射光施設NewSUBARUのBL07Aを利用した軟X線照射による低温結晶化を提案しており、非晶質Si(a-Si)膜において結晶化閥値温度を100℃程度低減できることを明らかにしている。Si2p軌道の内殻準位に近い光子エネルギーの軟X線照射による電子励起・原子移動効果により、SiO_x膜中のa-Siは結晶化した。軟X線照射時の基板温度は660℃である。nc-Siの粒径は、ラマンピークのシフトより16.8nmと見積もられた。軟X線照射により、nc-Siを低温で形成できる可能性があると考えられる。 |
| 抄録(英) | The low-temperature formation of nanocrystalline Si (nc-Si) in SiO_x is one of key technologies for the realization of high-quality solar cells. We proposed a low-temperature crystallization method by soft X-ray at BL07A in the synchrotron radiation facility, NewSUBARU. It is known that the crystallization temperature of amorphous Si (a-Si) film on SiO_2 substrate was reduced by about 100℃. The a-Si in SiO_x film was crystallized by atomic migration via electron excitation by soft X-ray irradiation at the photon energy near the core level of Si2p. The size of nc-Si prepared at 660℃ by soft X-ray irradiation was estimated to 16.8 nm from the peak position of Raman spectra. The nc-Si can be formed by soft X-ray irradiation at low temperature. |
| キーワード(和) | 軟X線 / ナノ結晶Si / 低温結晶化 / ラマン分光法 |
| キーワード(英) | Soft X-ray / nc-Si / Low-temperature crystallization / Raman scattering |
| 資料番号 | EID2014-32,SDM2014-127 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EID |
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| 開催期間 | 2014/12/5(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electronic Information Displays (EID) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 軟X線源を用いたSiO_x中nc-Siの形成(シリコン関連材料の作製と評価及びディスプレイ技術) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Formation of nc-Si in SiOx by Soft X-ray Irradiation |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 軟X線 / Soft X-ray |
| キーワード(2)（和/英） | ナノ結晶Si / nc-Si |
| キーワード(3)（和/英） | 低温結晶化 / Low-temperature crystallization |
| キーワード(4)（和/英） | ラマン分光法 / Raman scattering |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 草壁 史 / Fumito KUSAKABE |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 兵庫県立大学大学院工学研究科 University of Hyogo |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 平野 翔太 / Shota HIRANO |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 兵庫県立大学大学院工学研究科 University of Hyogo |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 部家 彰 / Akira HEYA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 兵庫県立大学大学院工学研究科 University of Hyogo |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 松尾 直人 / Naoto MATSUO |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 兵庫県立大学大学院工学研究科 University of Hyogo |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 神田 一浩 / Kazuhiro KANDA |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 LASTI, University of Hyogo |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 望月 孝晏 / Takayasu MOTIZUKI |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 LASTI, University of Hyogo |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 宮本 修治 / Shuji MIYAMOTO |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 LASTI, University of Hyogo |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 小濱 和之 / Kazuyuki KOHAMA |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 大阪大学接合科学研究所 Osaka University |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 伊藤 和博 / Kazuhiro ITO |
| 第 9 著者 所属（和/英） | 大阪大学接合科学研究所 Osaka University |
| 発表年月日 | 2014-12-12 |
| 資料番号 | EID2014-32,SDM2014-127 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | 359 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
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