| 講演名 | 2014-11-27 窒化物LED高効率化のためのナノインプリントとドライエッチングによる微細加工制御技術(窒化物半導体光・電子デバイス,材料,関連技術,及び一般) 鹿嶋 行雄, 松浦 恵里子, 嶋谷 聡, 小久保 光典, 田代 貴晴, 大川 貴史, 上村 隆一郎, 長田 大和, 藤川 紗千恵, 平山 秀樹, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | フォトニック結晶を窒化物LEDに形成し、光取出し効率を向上した結果を示す。また、シミュレーションによるフォトニック結晶の設計からモールド作成、二層レジストを利用したナノインプリントによるパターンの転写、ドライエッチングによるフォトニック結晶の形成に至る一貫した微細加工制御技術を併せて紹介する。 |
| 抄録(英) | We fabricated the photonic crystal in nitride LED and improved the light extraction efficiency. We also introduce the micro machining process integration technology from designing the mold by simulation, patterning of bi-layer resist by nano imprint and forming the photonic crystal by dry etching. |
| キーワード(和) | 光取出し効率 / フォトニック結晶 / 二層レジスト / ナノインプリント / ドライエッチング |
| キーワード(英) | Light extraction efficiency / Photonic crystal / Bi-layer resist / Nano-imprint / Dry etching |
| 資料番号 | ED2014-79,CPM2014-136,LQE2014-107 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
|---|---|
| 開催期間 | 2014/11/20(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 窒化物LED高効率化のためのナノインプリントとドライエッチングによる微細加工制御技術(窒化物半導体光・電子デバイス,材料,関連技術,及び一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | The micro machining process technology of nano imprint and dry etching to improve the efficiency of nitride LED |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光取出し効率 / Light extraction efficiency |
| キーワード(2)（和/英） | フォトニック結晶 / Photonic crystal |
| キーワード(3)（和/英） | 二層レジスト / Bi-layer resist |
| キーワード(4)（和/英） | ナノインプリント / Nano-imprint |
| キーワード(5)（和/英） | ドライエッチング / Dry etching |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 鹿嶋 行雄 / Yukio Kashima |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 丸文株式会社、システム営業本部 MARUBUN CORPORATION |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 松浦 恵里子 / Eriko Matsuura |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 丸文株式会社、システム営業本部 MARUBUN CORPORATION |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 嶋谷 聡 / Satoshi Shimatani |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京応化工業株式会社、開発本部 TOKYO OHKA KOGYO CO.,LTD. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 小久保 光典 / Mitsunori Kokubo |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東芝機械株式会社、ナノ加工システム事業部 TOSHIBA MACHINE CO.,LTD. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 田代 貴晴 / Takaharu Tashiro |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東芝機械株式会社、ナノ加工システム事業部 TOSHIBA MACHINE CO.,LTD. |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 大川 貴史 / Takafumi Ookawa |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 東芝機械株式会社、ナノ加工システム事業部 TOSHIBA MACHINE CO.,LTD. |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 上村 隆一郎 / Ryuichiro Kamimura |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 株式会社アルバック、半導体電子技術研究所 ULVAC,Inc. |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 長田 大和 / Yamato Osada |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 株式会社アルバック、半導体電子技術研究所 ULVAC,Inc. |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 藤川 紗千恵 / Sachie Fujikawa |
| 第 9 著者 所属（和/英） | 独立行政法人、理化学研究所、平山量子光素子研究室 RIKEN |
| 第 10 著者 氏名（和/英） | 平山 秀樹 / Hideki Hirayama |
| 第 10 著者 所属（和/英） | 独立行政法人、理化学研究所、平山量子光素子研究室 RIKEN |
| 発表年月日 | 2014-11-27 |
| 資料番号 | ED2014-79,CPM2014-136,LQE2014-107 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | 336 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |