| 講演名 | 2014-10-31 Otto配置による強磁性金属/誘電体界面へのプラズモンの励起(超高速伝送,変復調,分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅,WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,及び一般(ECOC報告)) 梅津 沙緒里, 貝原 輝則, 安藤 健朗, 矢後 佳貴, 清水 大雅, |
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| 抄録(和) | 光アイソレータは半導体レーザへの戻り光を遮断する必要不可欠な素子であり、一体集積化に向けた研究が行われている。我々は強磁性金属/誘電体界面の表面プラズモンの光アイソレータへの応用を検討した。SiO_2/Si/SiO_2からなる導波路の上部にCo/Si/SiO_2からなるプラズモン光導波路を配置した光導波路において、Siコア層からしみだすエバネセント波がOtto配置にて表面プラズモンに結合する様子と磁化反転時の反射率の変化を全反射減衰法(ATR法)により計算した。Siコア層からCo/Si/SiO_2層に光を入射したとき、反射率の変化が最大となる導波路構造において1μmの伝搬長で表面プラズモンに移行する様子が時間領域有限差分法(FDTD法)により確認された。 |
| 抄録(英) | Optical isolator is an essential component to prevent backward reflected light to laser diode. There are several waveguide optical isolators toward photonic integrated circuits. We have investigated surface plasmon at the interface between ferromagnetic metal/dielectric film and its application to waveguide optical isolators. Evanescent coupling of light from the Si core layer to the surface plasmon at Co/Si/SiO_2 and the reflectivity change upon magnetization reversal were calculated by ATR method (Otto configuration) on the Co/Si/SiO_2/Si/SiO_2 waveguides. Evanescent coupling with a propagation distance (<1 μm) was calculated by finite difference time domain (FDTD) method on the Co/Si/SiO_2/Si/SiO_2 waveguides showing the largest reflectivity change. |
| キーワード(和) | 光アイソレータ / 表面プラズモン / オットー配置 / 強磁性金属 / 横磁気カー効果 / 全反射減衰法 |
| キーワード(英) | Optical isolator / Surface plasmon / Otto confugulation / Ferromagnetic metal / Transverse magneto-optic Kerr effect / Attenuated total reflection method |
| 資料番号 | OCS2014-78,OPE2014-122,LQE2014-96 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE |
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| 開催期間 | 2014/10/23(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Lasers and Quantum Electronics (LQE) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | Otto配置による強磁性金属/誘電体界面へのプラズモンの励起(超高速伝送,変復調,分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅,WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,及び一般(ECOC報告)) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Excitation of surface plasmon at the interface between ferromagnetic metal/dielectric film by Otto configuration |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光アイソレータ / Optical isolator |
| キーワード(2)（和/英） | 表面プラズモン / Surface plasmon |
| キーワード(3)（和/英） | オットー配置 / Otto confugulation |
| キーワード(4)（和/英） | 強磁性金属 / Ferromagnetic metal |
| キーワード(5)（和/英） | 横磁気カー効果 / Transverse magneto-optic Kerr effect |
| キーワード(6)（和/英） | 全反射減衰法 / Attenuated total reflection method |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 梅津 沙緒里 / Saori UMETSU |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京農工大学工学府電気電子工学専攻 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 貝原 輝則 / Terunori KAIHARA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京農工大学工学府電気電子工学専攻 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 安藤 健朗 / Takeaki ANDO |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京農工大学工学府電気電子工学専攻 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 矢後 佳貴 / Yoshiki YAGO |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京農工大学工学府電気電子工学専攻 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 清水 大雅 / Hiromasa SHIMIZU |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東京農工大学工学府電気電子工学専攻 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 発表年月日 | 2014-10-31 |
| 資料番号 | OCS2014-78,OPE2014-122,LQE2014-96 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | 283 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
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