講演名 2014-10-24
CaFeO_x、LaFeO_3単相膜および[CaFeO_x/LaFeO_3]人工超格子の成膜条件最適化と電気的磁気的特性(薄膜プロセス・材料,一般)
大島 佳祐, 渡部 雄太, 及川 貴大, 稲葉 隆哲, / 永田 知子, 橋本 拓也, 高瀬 浩一, 山本 寛, 岩田 展幸,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) CaFeO_x(CFO)およびLaFeO_3(LFO)薄膜をパルスレーザ堆積(PLD)法により作製した。成膜条件探査奥として成膜時の酸素圧力を20Pa、1Pa、0.1Paに変化させて成膜を行った。成膜した各薄膜の結晶性をX線回折(XRD)にて評価した。CFO薄膜はすべての成膜時酸素圧力においてXRD2θ-θパターンで酸素欠損を示す格子間隔が倍周期のピークを確認した。また薄膜ピークが20Paに比べ高角側へシフトした。CFO(002)疑似ぺロブスカイト由来のピークとの強度比を比較すると成膜時の酸素圧力が1Paの時、強度比0.011と最も低い値を示した。ロッキングカーブ測定から計算した半値幅(Full Width at Half Maximum,FWHM)は成膜圧力20Paと1Paを比較すると差は-40%であった。1Paから0.1Paでは-7%の変化しか起こらなかった。以上の結果より成膜時内圧1Paで良質なCFO_x薄膜が作製できることが分かった。LFO薄膜において成膜時内圧1Paでは、良好な結晶性、粗悪な結晶性を持つ二つの層に分離したような薄膜成長したロッキングカーブが得られた。ロッキングカーブ測定より計算したFWHMを比較すると1Paと20Paでは12%の差が発生した。
抄録(英) LaFeO_3 and CaFeO_x films are deposited by PLD method. We changed O_2 pressure during deposition 20Pa 1Pa 0.1Pa for the optimization of growth condition. CFO and LFO films were measurement by X-ray diffraction (XRD). CFO film all of O_2 pressure observed indicated peaks indicate oxygen vacancy by XRD 2θ-θ pattern. The intensity ratio was calculated by CFO (002) PC peaks and extra peaks. At the O_2 pressure IPa the intensity ratio was minimum (value: 0.011). Full Width at Half Maximum (FWHM) is also decrease by the O_2 pressure during deposition. FWHM value that during deposition pressure was 1Pa decrease 40% compared with 20Pa. FWHM value that during deposition pressure was 0.1Pa decrease 7% compared with 1Pa. From the results the best O_2 pressure was 1Pa. In the case of LFO at deposition pressure 1Pa, the result of rocking curve indicated two phase grown good crystallinity and the poor Crystallinity. FWHM calculate from rocking curve was a difference of 12% in 20Pa to 1Pa.
キーワード(和) PLD法 / 人工超格子 / 巨大電気磁気効果
キーワード(英) PLD method / Super lattice / Giant Magnetic-Electric Effect
資料番号 CPM2014-111
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2014/10/17(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) CaFeO_x、LaFeO_3単相膜および[CaFeO_x/LaFeO_3]人工超格子の成膜条件最適化と電気的磁気的特性(薄膜プロセス・材料,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Optimization of Growth Condition and Electric/Magnetic Properties of CaFeO_x, LaFeO_3 Films and [CaFeO_x/LaFeO_3] Superlattice
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) PLD法 / PLD method
キーワード(2)(和/英) 人工超格子 / Super lattice
キーワード(3)(和/英) 巨大電気磁気効果 / Giant Magnetic-Electric Effect
第 1 著者 氏名(和/英) 大島 佳祐 / Keisuke Oshima
第 1 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Science and Technology, Nihon University
第 2 著者 氏名(和/英) 渡部 雄太 / Yuta Watabe
第 2 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Science and Technology, Nihon University
第 3 著者 氏名(和/英) 及川 貴大 / Takahiro Oikawa
第 3 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Science and Technology, Nihon University
第 4 著者 氏名(和/英) 稲葉 隆哲 / Takaaki Inaba
第 4 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Science and Technology, Nihon University
第 5 著者 氏名(和/英) / 永田 知子 / Huaping Song
第 5 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Science and Technology, Nihon University
第 6 著者 氏名(和/英) 橋本 拓也 / Tomoko Nagata
第 6 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Science and Technology, Nihon University
第 7 著者 氏名(和/英) 高瀬 浩一 / Takuya Hashimoto
第 7 著者 所属(和/英) 日本大学文理学部
College of Humanities and Sciences, Nihon University
第 8 著者 氏名(和/英) 山本 寛 / Kouichi Takase
第 8 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Science and Technology, Nihon University
第 9 著者 氏名(和/英) 岩田 展幸 / Hiroshi Yamamoto
第 9 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Science and Technology, Nihon University
発表年月日 2014-10-24
資料番号 CPM2014-111
巻番号(vol) vol.114
号番号(no) 276
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日