| 講演名 | 2014-10-24 光照射可能なホットウォール型化学気相成長装置の開発とカーボンナノチューブの作製(薄膜プロセス・材料,一般) 川口 大貴, 津田 悠作, 吉田 圭佑, 永田 知子, 岩田 展幸, 山本 寛, |
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| 抄録(和) | 単層カーボンナノチューブ(Single-Walled Carbon Nanotube:SWNT)の850℃～1000℃での高温成長と自由電子レーザー(Free Electron Laser:FEL)が照射可能な、ホットウォール型化学気相成長(Hot-Wall Type Chemical Vapor Deposition:HW-CVD)装置の開発を行った.炭素源となるガスを高温の状態で基板に当てるために,メインヒーターの前にプレヒーターを取り付けた。これにより、これまでのコールドウォール型(Cold-Wall Type:CW-)CVD装置では行えなかった、SWNTの高温成長が可能となった。またメインヒーターの中央上部に石英の照射窓を取り付けたことにより、SWNT成長中のFEL照射が可能となった。更にエタノールの容器として新たにベーパライザーを用いることにより、エタノールの気化を促進させることが可能となった。またこの装置を用いて、CW-CVD装置でのCVD条件でSiO_2/Si基板上にSWNT成長を試みたが、CVD後の基板表面像からは繊維状の物質は確認できなかった。Ramanスペクトルを見てみるとG-Band、D-Band及びRadial breathing mode(RBM)を確認することが出来なかった。 |
| 抄録(英) | We report the development of Hot-wall type chemical vapor Deposition (HW-CVD) equipment by which high temperature, 850℃～1000℃, growth of single-walled carbon nanotube (SWNT) is able to be carried out with free electron laser (PEL) irradiation. Heater is separated to two zones. One of them is for decomposition of carbon source, and the other one is for growth of SWNT. A vaporizer is used to stabilize the quantity of ethanol introduction as a carbon source. Using this system, we try to SWNT growth on SiO_2/Si substrate with the same condition as that of the cold-wall type (CW-) CVD equipment. However, fibrous materials are not confirmed from the substrate surface image after CVD. G-Band, D-Band, and RBM are not confirmed from the Raman spectrum. |
| キーワード(和) | ホットウォール型化学気相成長装置 / 単層カーボンナノチューブ |
| キーワード(英) | Hot-Wall Type Chemical Vapor Deposition Equipment / Single Wall Nanotube |
| 資料番号 | CPM2014-106 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2014/10/17(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 光照射可能なホットウォール型化学気相成長装置の開発とカーボンナノチューブの作製(薄膜プロセス・材料,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | The Development of Hot-Wall Chemical Vapor Deposition Equipment with Structural System for Laser Irradiation, and Preparation of Carbon Nanotubes |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ホットウォール型化学気相成長装置 / Hot-Wall Type Chemical Vapor Deposition Equipment |
| キーワード(2)（和/英） | 単層カーボンナノチューブ / Single Wall Nanotube |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 川口 大貴 / Daiki Kawaguchi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 日本大学理工学部 College of Science and Technology, Nihon University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 津田 悠作 / Yusaku Tsuda |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 日本大学理工学部 College of Science and Technology, Nihon University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 吉田 圭佑 / Nagata Tomoko / |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 日本大学理工学部 College of Science and Technology, Nihon University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 永田 知子 / Nobuyuki Iwata |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 日本大学理工学部 College of Science and Technology, Nihon University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 岩田 展幸 / Hiroshi Yamamoto |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 日本大学理工学部 College of Science and Technology, Nihon University |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 山本 寛 |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 日本大学理工学部 College of Science and Technology, Nihon University |
| 発表年月日 | 2014-10-24 |
| 資料番号 | CPM2014-106 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | 276 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |