| 講演名 | 2014-07-17 電析初期過程の解析に基づく超高記録密度ナノドットアレイの形成及び高保磁力化(固体メモリ・媒体,一般) 萩原 弘規, ヴォダルツ ジギー, 大谷 智博, 西家 大貴, / 本間 敬之, |
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| 抄録(和) | 我々は,電気化学的手法である電解析出法とリソグラフィ技術を組み合わせ,次世代型の磁気記録媒体として期待されるビットパターンドメディア(BPM)の形成を検討している.本検討では,hcp-Co_<80>-Pt_<20>及びLl_0-Fe-Ptをhcp-Ru(002)/Si基板上に形成し,特性評価を行った.ネガ型電子線レジストを用いた微細パターン形成及びCo-Ptの電析では1Tb/in^2に相当する25nm周期のCo-Ptナノドットアレイの形成を確認した.Co-Ptナノドットアレイの初期析出過程の解析では,核発生を抑制して核成長を促進するために電析中に電位を変化させた結果,析出初期に発生したCo-Pt核の粒径の増大が確認され,1ドットが1粒子からなるBPMの形成に向けて有用な知見を得た.Fe-Pt系材料の高保磁力化においては,パルス電析を用いてFeリッチ層とPtリッチ層を積層させ,アニーリング時のLl_-Fe-Pt規則構造への相転移の促進を検討した,その結果,650℃でのアニーリングにより13.4kOe,500℃でのアニーリングにより10.0kOeの保磁力が確認された.UV-ナノインプリント法により形成したナノドットパターンにパルス電析を用いてFe-Ptの充填を行った結果,Fe-Ptナノドットアレイの均一な形成が確認された. |
| 抄録(英) | We have attempted to fabricate ferromagnetic nanodot arrays for bit patterned media (BPM) by using electrochemical processes and lithography techniques. In this study, we fabricated hcp-Co_<80>Pt_<20> and Ll_0-FePt thin films and nanodot arrays onto hcp-Ru (002) / Si substrate and analyzed them. By using electron beam lithography with negative-type resist, electrodeposited Co-Pt nanodot arrays with 10 nm diameter and 25 nm pitch were uniformly fabricated. For controlling the initial deposition process, applied potential was changed during electrodeposition to surpress nucleation and promoting growth. As a result, the grain size was increased compared with the initial stage of the nucleation. The Fe-rich and Pt-rich multilayers were fabricated by pulse electrodeposition to enhance the phase transformation from fcc-Fe-Pt to Ll_0 Fe-Pt. By annealing at 650 ℃ and 500 ℃, the phase transformation from fcc-Fe-Pt to Ll_0 Fe-Pt was observed and Fe-Pt films with perpendicular coercivity of 13.4 kOe and 10.0 kOe. In addition, Fe-Pt nanodot arrays were successfully fabricated into the patterns formed using UV-nanoimprint lithography with such pulse electrodeposition. |
| キーワード(和) | BPM / 電解析出法 / Co-Pt / Fe-Pt / 電子線描画法 / UV-ナノインプリント法 |
| キーワード(英) | BPM / Electrodeposition / Co-Pt / Fe-Pt / Electron Beam Lithography / UV-Nanoimprint Lithography |
| 資料番号 | MR2014-9 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MR |
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| 開催期間 | 2014/7/10(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Magnetic Recording (MR) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 電析初期過程の解析に基づく超高記録密度ナノドットアレイの形成及び高保磁力化(固体メモリ・媒体,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of ultra-high density nanodot arrays with high coercivity based on analysis of initial deposition process |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | BPM / BPM |
| キーワード(2)（和/英） | 電解析出法 / Electrodeposition |
| キーワード(3)（和/英） | Co-Pt / Co-Pt |
| キーワード(4)（和/英） | Fe-Pt / Fe-Pt |
| キーワード(5)（和/英） | 電子線描画法 / Electron Beam Lithography |
| キーワード(6)（和/英） | UV-ナノインプリント法 / UV-Nanoimprint Lithography |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 萩原 弘規 / Hiroki HAGIWARA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 早稲田大学先進理工学部 Faculty of Science Engineering, Waseda University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | ヴォダルツ ジギー / Siggi WODARZ |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 早稲田大学先進理工学部 Faculty of Science Engineering, Waseda University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 大谷 智博 / Tomohiro OTANI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 早稲田大学先進理工学部 Faculty of Science Engineering, Waseda University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 西家 大貴 / Daiki NISHIIE |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 早稲田大学先進理工学部 Faculty of Science Engineering, Waseda University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | / 本間 敬之 / Giovanni ZANGARI |
| 第 5 著者 所属（和/英） | ヴァージニア大学 University of Virginia |
| 発表年月日 | 2014-07-17 |
| 資料番号 | MR2014-9 |
| 巻番号（vol） | vol.114 |
| 号番号（no） | 140 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |