講演名 2014-05-29
n型Ge単結晶中におけるSnと空孔関連欠陥との相互作用(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料)及びその他)
竹内 和歌奈, 田岡 紀之, 坂下 満男, 中塚 理, 財満 鎭明,
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抄録(和) Ge結晶に導入されたSnが、空孔欠陥やドーパントとの複合欠陥等の格子欠陥に与える効果についてDeep-Level Transient Spectroscopy(DLTS)法を用いて評価を行った。Sn及びGe注入試料ともに空孔欠陥およびSb-V欠陥が観測される。一方、Snイオン注入試料ではGeイオン注入試料では見られないE_v+0.19eVにトラップを観測した。そのトラップ密度はSnの導入量とともに増加し、空孔欠陥、Sb-V欠陥が減少する。従って、Snの導入によってSn-V欠陥やSn起因の欠陥が優先的に生成される結果、空孔欠陥及びSb-V欠陥に起因するトラップ密度を減少できることがわかった。
抄録(英) Interaction between Sn and vacancy-related defects in an n-type Ge single crystal have been investigated by deep-level transient spectroscopy (DLTS). Di-vacancy and Sb-V defects are observed in the both Ge and Sn ion implanted samples. Meanwhile, in the Sn ion implanted samples, a trap of the single energy level of E_v+0.19 eV is observed while it does not appear in the Ge ion implanted samples. The density of this trap increases with the Sn concentration while those of di-vacancy and Sb-V defects decreases. Thus, Sn-V and Sn-related defects are preferentially formed with the Sn implantation into Ge single crystal. Based on these results, these trap density of di-vacancy and Sb-V defects can be decreased with increasing Sn atoms.
キーワード(和) イオン注入 / Ge / Sn / 欠陥 / DLTS
キーワード(英) Ion implantation / Ge / Sn / defects / DLTS
資料番号 ED2014-41,CPM2014-24,SDM2014-39
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2014/5/21(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 JPN
タイトル(和) n型Ge単結晶中におけるSnと空孔関連欠陥との相互作用(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料)及びその他)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Interaction between Sn and Vacancy-rerated Defects in n-type Germanium Single Crystal
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) イオン注入 / Ion implantation
キーワード(2)(和/英) Ge / Ge
キーワード(3)(和/英) Sn / Sn
キーワード(4)(和/英) 欠陥 / defects
キーワード(5)(和/英) DLTS / DLTS
第 1 著者 氏名(和/英) 竹内 和歌奈 / Wakana TAKEUCHI
第 1 著者 所属(和/英) 名古屋大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Nagoya University
第 2 著者 氏名(和/英) 田岡 紀之 / Noriyuki TAOKA
第 2 著者 所属(和/英) 名古屋大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Nagoya University
第 3 著者 氏名(和/英) 坂下 満男 / Mitsuo SAKASHITA
第 3 著者 所属(和/英) 名古屋大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Nagoya University
第 4 著者 氏名(和/英) 中塚 理 / Osamu NAKATSUKA
第 4 著者 所属(和/英) 名古屋大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Nagoya University
第 5 著者 氏名(和/英) 財満 鎭明 / Shigeaki ZAIMA
第 5 著者 所属(和/英) 名古屋大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Nagoya University
発表年月日 2014-05-29
資料番号 ED2014-41,CPM2014-24,SDM2014-39
巻番号(vol) vol.114
号番号(no) 56
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日