講演名 2013-08-01
これからの集積回路技術 : 部品からの脱却(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
益 一哉,
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抄録(和) 集積回路技術のトレンドを概観して、これからの研究開発のあり方について議論する
抄録(英) Technology trend of integrated circuits are briefly summarized. Then, new trend for high-mix low volume production solution in the field of integrated circuit is discussed.
キーワード(和) 集積回路 / CMOS / CMOS / miniaturization / Integration with diverse functionalities / Integration diverse functionalities
キーワード(英) Integrated circuits / CMOS / miniaturization / Integration with diverse functionalities
資料番号 SDM2013-68,ICD2013-50
発行日

研究会情報
研究会 ICD
開催期間 2013/7/25(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Integrated Circuits and Devices (ICD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) これからの集積回路技術 : 部品からの脱却(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Future of Integrated Circuit R&D : Grow out from Parts/Component Mind
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 集積回路 / Integrated circuits
キーワード(2)(和/英) CMOS / CMOS
キーワード(3)(和/英) CMOS / miniaturization
キーワード(4)(和/英) miniaturization / Integration with diverse functionalities
キーワード(5)(和/英) Integration with diverse functionalities
キーワード(6)(和/英) Integration diverse functionalities
第 1 著者 氏名(和/英) 益 一哉 / Kazuya Masu
第 1 著者 所属(和/英) 東京工業大学ソリューション研究機構
Solutions Research Laboratory, Tokyo Institute of Technology
発表年月日 2013-08-01
資料番号 SDM2013-68,ICD2013-50
巻番号(vol) vol.113
号番号(no) 173
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日