| 講演名 | 2013-06-21 300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」) 北 智洋, 田主 裕一朗, 奈良 匡樹, 平野 秀, 外山 宗博, 関 三好, 越野 圭二, 横山 信幸, 大塚 実, 杉山 曜宣, 石塚 栄一, 佐野 作, 堀川 剛, 山田 博仁, |
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| 抄録(和) | ArF液侵リソグラフィー技術を用いて300mm SOIウェハ上にチャネル型シリコン細線導波路,方向性結合器,リング共振器を作製し,光学特性を評価した.評価結果は数値計算結果との良い一致を示し,シリコンフォトニクスデバイス作製に本プロセス工程を用いることの有効性が確認された. |
| 抄録(英) | We have investigated optical characteristics of Si photonics devices formed on 300 mm SOI wafers by using ArF immersion lithography process. The measurement results were in good agreement with the calculated results for designed structure and the process accuracy for silicon photonics devices were verified. |
| キーワード(和) | シリコンフォトニクス / 方向性結合器 / リング共振器 |
| キーワード(英) | Silicon Photonics / Directional Coupler / Ring resonator |
| 資料番号 | OPE2013-7,LQE2013-17 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE |
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| 開催期間 | 2013/6/14(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Lasers and Quantum Electronics (LQE) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Silicon photonics devices on 300mm wafer fabricated by using ArF immersion lithography |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | シリコンフォトニクス / Silicon Photonics |
| キーワード(2)（和/英） | 方向性結合器 / Directional Coupler |
| キーワード(3)（和/英） | リング共振器 / Ring resonator |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 北 智洋 / Tomohiro KITA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東北大学工学研究科 Department of Communication Engineering, Tohoku University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 田主 裕一朗 / Yuichiro TANUSHI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東北大学工学研究科 Department of Communication Engineering, Tohoku University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 奈良 匡樹 / Masaki NARA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東北大学工学研究科 Department of Communication Engineering, Tohoku University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 平野 秀 / Syu HIRANO |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東北大学工学研究科 Department of Communication Engineering, Tohoku University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 外山 宗博 / Munehiro TOYAMA |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 関 三好 / Miyoshi SEKI |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 越野 圭二 / Keiji KOSHINO |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 横山 信幸 / Nobuyuki YOKOYAMA |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 大塚 実 / Minoru OHTSUKA |
| 第 9 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
| 第 10 著者 氏名（和/英） | 杉山 曜宣 / Akinobu SUGIYAMA |
| 第 10 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
| 第 11 著者 氏名（和/英） | 石塚 栄一 / Eiichi ISHITSUKA |
| 第 11 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
| 第 12 著者 氏名（和/英） | 佐野 作 / Tsukuru SANO |
| 第 12 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
| 第 13 著者 氏名（和/英） | 堀川 剛 / Tsuyoshi HORIKAWA |
| 第 13 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) |
| 第 14 著者 氏名（和/英） | 山田 博仁 / Hirohito YAMADA |
| 第 14 著者 所属（和/英） | 東北大学工学研究科 Department of Communication Engineering, Tohoku University |
| 発表年月日 | 2013-06-21 |
| 資料番号 | OPE2013-7,LQE2013-17 |
| 巻番号（vol） | vol.113 |
| 号番号（no） | 100 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
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