| 講演名 | 2013-06-21 強磁性(FM)金属/c-,r-oriented Cr_2O_3積層膜による結晶構造解析と磁気特性(材料デバイスサマーミーティング) 黒田 卓司, 中村 拓未, 林 佑太郎, 隅田 貴士, 岩田 展幸, 山本 寛, |
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| 抄録(和) | γ面およびc面サファイア基板上に、基板温度580℃以上にてCr_2O_3薄膜を成長させた。r面上では基板温度の上昇と共に、粒界に発生した溝の深さが深くなったが、結晶性は向上した。一つのグレインに注目すると、その表面はステップ-テラス構造を示した。一方、c面上では600℃以上において基板温度に依存せず、表面は非常に平坦であった。表面荒さRaはr面上Cr_2O_3薄膜の約1/10であった。逆格子マップの結果からc面配向膜は双晶を含み、r面配向膜は双晶を含まず成長していた。磁気力顕微鏡(MFM)を用いてPt/Co/Pt/r面Cr_2O_3/Al_2O_3積層膜の磁気像を測定した。電磁場冷却前後で磁気像に明らかな違いはなかった。 |
| 抄録(英) | The magnetoelectric Cr_2O_3 films are deposited on r- and c-cut sapphire substrates at a substrate temperature higher than 580℃. Increasing the r-cut substrate temperature, the depth of the trenches between grains becomes deeper, leading to rough surface. However, the crystallinity is improved due to higher migration energy. The surface of one grain is step-terrace structure. In the meantime, the c-oriented films surface is flat regardless of substrate temperature more than 600℃. The value of the surface roughness Ra is approximately one-tenth comparing to that of r-oriented films. The lattice parameter of direction perpendicular to plane is consistent of bulk value. The stress originated from the mismatch between film and substrate is completely released. From the results of the reciprocal space mapping (RSM), the c-oriented films grow with twin, while the r-oriented films grow without twin. Pt/Co/Pt/r-oriented Cr_2O_3/Al_2O_3 of the magnetic image was measured by Magnetic force microscopy (MFM). There wasn't difference magnetic image before and after field cool. |
| キーワード(和) | Cr_2O_3,薄膜 / 薄膜 / 双晶 / 逆格子マップ |
| キーワード(英) | Cr_2O_3 / films / twin / reciprocal space mapping |
| 資料番号 | EMD2013-19,CPM2013-34,OME2013-42 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2013/6/14(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 強磁性(FM)金属/c-,r-oriented Cr_2O_3積層膜による結晶構造解析と磁気特性(材料デバイスサマーミーティング) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Crystal Structure Analysis and Magnetic Properties of Ferromagnetic Metal/c-, r-oriented Cr_2O_3 Multilayer |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | Cr_2O_3,薄膜 / Cr_2O_3 |
| キーワード(2)（和/英） | 薄膜 / films |
| キーワード(3)（和/英） | 双晶 / twin |
| キーワード(4)（和/英） | 逆格子マップ / reciprocal space mapping |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 黒田 卓司 / Takuji Kuroda |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 日本大学理工学部 College of Science&Technology Nihon Univ |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 中村 拓未 / Takumi Nakamura |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 日本大学理工学部 College of Science&Technology Nihon Univ |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 林 佑太郎 / Yutaro Hayashi |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 日本大学理工学部 College of Science&Technology Nihon Univ |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 隅田 貴士 / Takashi Sumida |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 日本大学理工学部 College of Science&Technology Nihon Univ |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 岩田 展幸 / Nobuyuki Iwata |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 日本大学理工学部 College of Science&Technology Nihon Univ |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 山本 寛 / Hiroshi Yamamoto |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 日本大学理工学部 College of Science&Technology Nihon Univ |
| 発表年月日 | 2013-06-21 |
| 資料番号 | EMD2013-19,CPM2013-34,OME2013-42 |
| 巻番号（vol） | vol.113 |
| 号番号（no） | 97 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |