講演名 2013-06-21
フィールドにおけるLSI劣化テストの可能性に関する一考察(設計/テスト/検証)
佐藤 康夫, 梶原 誠司,
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抄録(和) 近年の電子機器に組み込まれたLSIは極めて高い信頼性を要求されている.しかしBTI (Bias Temperature Instability)に代表される半導体の劣化現象は,従来の製造テストに依存したフィールドでの信頼性確保を困難にしている.それゆえ,フィールドでのモニタ技術やテスト技術に関する適用事例や研究が数多く報告され始めている.一方,劣化現象そのものについては高精度な物理モデルが知られているにも関わらず,実LSIのフィールドでの振る舞いや,それを踏まえて如何にテストすべきかの観点からの研究は必ずしも多くないように見える.本論文では,代表的な物理モデルを元にLSIのフィールドでの故障発生状況をシミュレーションし,様々なパラメータが品質に及ぼす影響を考察する.フィールドでの品質には数多くのパラメータを正確に把握することは困難なこと,また実際のフィールドでの入手可能な品質データが極めて少ないことから,実際のFIT数とシミュレーションによる予測FIT数を合わせることは困難であるが,その定性的性質について考察可能なことを示す.
抄録(英) Various electronic systems that consist of variety of LSIs require very high reliability in field. However, physical degradation phenomena such as BTI (Bias Temperature Instability) make it difficult to keep the reliability in field only by conventional fabrication LSI testing. Therefore, many reports or researches in regard to monitoring technologies or field testing have begun to be published. Although intensive researches have done in physical modeling of degradation, it does not seem that so many researches are being done in the degradation activities themselves or the required functionalities of field testing that are based on the modeling. This paper addresses various parameters that affect field reliability of LSIs by a simulation, which is based-on a typical physical model. As it is difficult to define many parameter values correctly and is also hard to get actual reliability data in field, it is impossible to adjust the simulated FIT number to the actual number. However, the authors show that a qualitative discussion clarify the impact of each parameter.
キーワード(和) フィールド / 劣化 / BTI / テスト / 製造バラツキ / FIT / LSI / 半導体
キーワード(英) Field / Degradation / BTI / Test / Fabrication variation / FIT / LSI / Semiconductor devices
資料番号 DC2013-12
発行日

研究会情報
研究会 DC
開催期間 2013/6/14(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Dependable Computing (DC)
本文の言語 JPN
タイトル(和) フィールドにおけるLSI劣化テストの可能性に関する一考察(設計/テスト/検証)
サブタイトル(和)
タイトル(英) A Theretical Discussion for Testabilty of a Degraded LSI in Field
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) フィールド / Field
キーワード(2)(和/英) 劣化 / Degradation
キーワード(3)(和/英) BTI / BTI
キーワード(4)(和/英) テスト / Test
キーワード(5)(和/英) 製造バラツキ / Fabrication variation
キーワード(6)(和/英) FIT / FIT
キーワード(7)(和/英) LSI / LSI
キーワード(8)(和/英) 半導体 / Semiconductor devices
第 1 著者 氏名(和/英) 佐藤 康夫 / Yasuo SATO
第 1 著者 所属(和/英) 九州工業大学:独立行政法人科学技術振興機構CREST
Kyushu Institute of Technology:Japan Science and Technology Agency, CREST
第 2 著者 氏名(和/英) 梶原 誠司 / Seiji KAJIHARA
第 2 著者 所属(和/英) 九州工業大学:独立行政法人科学技術振興機構CREST
Kyushu Institute of Technology:Japan Science and Technology Agency, CREST
発表年月日 2013-06-21
資料番号 DC2013-12
巻番号(vol) vol.113
号番号(no) 104
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日