講演名 2013-07-18
放射光エッチングによる180GHz帯テフロン導波管の試作と評価(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
岸原 充佳, 木戸 秀樹, 山口 明啓, 内海 裕一, 太田 勲,
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抄録(和) 本論文は,放射光直接エッチング,金属のスパッタ蒸着,電解めっきのプロセスを経て行う180GHz帯テフロン(PTFE)導波管の試作とその評価結果について述べている.放射光の直接照射で微細テフロン構造が形成できることは,これまでに報告されている.テフロン導波管の製作プロセスを概説した後に,本論文では,180GHz帯で動作する直線およびマイターベンド導波管の試作を行っている.また,測定用の180GHzテフロン導波管フランジについても,同様の製作プロセスで試作している.試作したテフロン導波管の伝送特性の測定結果を示すと共に,異なる長さのテフロン導波管に対する測定結果を用いて伝送損失の評価を行っている.
抄録(英) This paper describes trial fabrication of a PTFE-filled waveguide for 180 GHz-band operation with the use of the SR (synchrotron radiation) direct etching process of PTFE, sputter deposition of metal, and electroplating. It has been reported that PTFE microstructures can be fabricated by the direct exposure to SR. In this paper, the fabrication procedure for the PTFE-filled waveguide is briefly reviewed and the trial fabrication of the straight and the mitered-bend sections for 180 GHz operation is attempted. A waveguide flange for the 180 GHz PTFE-filled waveguide is also fabricated in the same process. The measured frequency characteristics of the PTFE-filled waveguides are shown, and the propagation losses are evaluated using the measurement results of the PTFE-filled waveguides with different lengths.
キーワード(和) X線リソグラフィ / スパッタリング / 導波管コンポーネント / 誘電体導波路
キーワード(英) X-ray lithography / sputtering / waveguide components / dielectric loaded waveguides
資料番号 MW2013-64,OPE2013-33,EST2013-28,MWP2013-23
発行日

研究会情報
研究会 MWP
開催期間 2013/7/11(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Microwave and Millimeter-wave Photonics (MWP)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 放射光エッチングによる180GHz帯テフロン導波管の試作と評価(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Trial Fabrication of 180 GHz-Band PTFE-Filled Waveguide by SR Etching and Its Evaluation
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) X線リソグラフィ / X-ray lithography
キーワード(2)(和/英) スパッタリング / sputtering
キーワード(3)(和/英) 導波管コンポーネント / waveguide components
キーワード(4)(和/英) 誘電体導波路 / dielectric loaded waveguides
第 1 著者 氏名(和/英) 岸原 充佳 / Mitsuyoshi KISHIHARA
第 1 著者 所属(和/英) 岡山県立大学情報工学部
Faculty of Computer Science & System Engineering, Okayama Prefectural University
第 2 著者 氏名(和/英) 木戸 秀樹 / Hideki KIDO
第 2 著者 所属(和/英) 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo
第 3 著者 氏名(和/英) 山口 明啓 / Akinobu YAMAGUCHI
第 3 著者 所属(和/英) 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo
第 4 著者 氏名(和/英) 内海 裕一 / Yuichi UTSUMI
第 4 著者 所属(和/英) 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所
Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo
第 5 著者 氏名(和/英) 太田 勲 / Isao OHTA
第 5 著者 所属(和/英) 兵庫県立大学
University of Hyogo
発表年月日 2013-07-18
資料番号 MW2013-64,OPE2013-33,EST2013-28,MWP2013-23
巻番号(vol) vol.113
号番号(no) 144
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日