講演名 2013-07-12
電気化学的手法により形成した超高記録密度強磁性ナノドットアレイの初期析出過程の解析及び特性評価(固体メモリ・媒体,一般)
ヴォダルツ ジギー, 間庭 佑太, 萩原 弘規, 本間 敬之,
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抄録(和) 我々は,電気化学的手法である電解析出法とリソグラフィ技術を用いて,ビットパターンメディア(BPM)への応用を目的とした強磁性ナノドットアレイの形成を試みている.本研究では強磁性体としてhcp-Co-Pt(002)とL1_0-Fe-Ptに着目し,下地層としてhcp-Ru(002)層を用いることで,極薄膜での磁気特性向上を試みた.また,電子線描画法により形成したナノドットパターンに対して電解析出法によりCo-Pt及びFe-Ptを充填し,強磁性ナノドットアレイの形成及び初期析出過程の解析を試みた.その結果Ru下地層を用いることで,形成されたCo-Pt薄膜の保磁力向上,結晶性向上が確認された.電子線描画法を用いたプロセスでは2Tb/in.^2に相当する18nm周期,10nm径のCo-Ptナノドットアレイの形成を確認した.初期析出解析を行なった結果,印加電位によりナノドット内におけるCo-Ptの粒径が制御可能であることが示された.Fe-Ptに関しては,アニール処理によりL1_0構造への相転移が確認され,保磁力の向上が示された.
抄録(英) We have been fabricating ferromagnetic nanodot arrays for bit patterned media (BPM) by using lithography techniques and electrochemical processes. In this research, we attemped to fabricate hcp-Co-Pt(002) and L10-Fe-Pt thin films and nanodot arrays with high coercivity. Nano-patterns were formed by electron beam lithography (EBL) and Co-Pt and Fe-Pt were electrodeposited into the nano-patterns. For obtaining Co-Pt thin films and nanodot arrays with high perpendicular coercivities, we applied hcp-Ru(002) intermediate layer on Si substrate. As a result, the magnetic properties and the crystallinities of Co-Pt thin films and nanodot arrays were improved by using Ru(002) layer, and Co-Pt nanodot arrays with 10 nm diameters and 18 nm pitches were observed. Investigation of initial deposition suggested that the particle size of Co-Pt can be controlled by changing the applied potential. The phase transformation from fcc-Fe-Pt to L1_0-Fe-Pt was verified by annealing, and the coercivities of Fe-Pt were improved.
キーワード(和) BPM / 電解析出法 / Co-Pt / Fe-Pt / 電子線描画法
キーワード(英) BPM / Electrodeposition / Co-Pt / Fe-Pt / Electron Beam Lithography
資料番号 MR2013-8
発行日

研究会情報
研究会 MR
開催期間 2013/7/5(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Magnetic Recording (MR)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 電気化学的手法により形成した超高記録密度強磁性ナノドットアレイの初期析出過程の解析及び特性評価(固体メモリ・媒体,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Characterization and analysis of deposition process of ultra-high density magnetic nanodot arrays fabricated by electrochemical processes
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) BPM / BPM
キーワード(2)(和/英) 電解析出法 / Electrodeposition
キーワード(3)(和/英) Co-Pt / Co-Pt
キーワード(4)(和/英) Fe-Pt / Fe-Pt
キーワード(5)(和/英) 電子線描画法 / Electron Beam Lithography
第 1 著者 氏名(和/英) ヴォダルツ ジギー / Siggi Wodarz
第 1 著者 所属(和/英) 早稲田大学先進理工学部
Faculty of Science Engineering, Waseda University
第 2 著者 氏名(和/英) 間庭 佑太 / Yuta Maniwa
第 2 著者 所属(和/英) 早稲田大学先進理工学部
Faculty of Science Engineering, Waseda University
第 3 著者 氏名(和/英) 萩原 弘規 / Hiroki Hagiwara
第 3 著者 所属(和/英) 早稲田大学先進理工学部
Faculty of Science Engineering, Waseda University
第 4 著者 氏名(和/英) 本間 敬之 / Takayuki Homma
第 4 著者 所属(和/英) 早稲田大学先進理工学部
Faculty of Science Engineering, Waseda University
発表年月日 2013-07-12
資料番号 MR2013-8
巻番号(vol) vol.113
号番号(no) 127
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日