講演名 2013/1/23
ランダムテレグラフノイズ(RTN)の統計的評価手法と微細MOSFETばらつきへの影響(IEDM特集(先端CMOSテバイス・プロセス技術))
三木 浩史, 手賀 直樹, 山岡 雅直, /, 小林 正治, /, /, /, /, / 鳥居 和功,
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抄録(和) 微細MOSFETのRTNを計測し,複数の捕獲準位応答を隠れマルコフモデルに基づいたアルゴリズムで解析した 高誘電率絶縁膜-金属ゲート構造とアンドープチャネルにより, RTN振幅は小さくなるが, 14nm技術の低電力回路では重大な問題になる可能性がある.RTNが引き起こす履歴効果により,短時間のBTIと論理遅延の不確定性が発生するためである.本稿ではまた, RTNをSRAMで検出する手法についても議論する.
抄録(英) Analyses of RTN using a multiple trap hidden Markov model algorithm revealed that RTN could still be a serious threat to 14-nm low-power circuit even though HKMG and undoped channels tend to reduce it Hysteretic effects are induced by temporal aspects of RTN, leading to short-term BTI and logic uncertainty RTN is also identified in SRAM array.
キーワード(和) ランダムテレグラフノイズ / high-κ / メタルゲート / BTI / 隠れマルコフモデル
キーワード(英) random telegraph noise / high-κ / metal gate / BTI / hidden Markov model
資料番号 SDM2012-145
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2013/1/23(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) ランダムテレグラフノイズ(RTN)の統計的評価手法と微細MOSFETばらつきへの影響(IEDM特集(先端CMOSテバイス・プロセス技術))
サブタイトル(和)
タイトル(英) Statistical Analysis of Random Telegraph Noise (RTN) and its Impact on Variation in Threshold Voltage of Highly Scaled MOSFET
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ランダムテレグラフノイズ / random telegraph noise
キーワード(2)(和/英) high-κ / high-κ
キーワード(3)(和/英) メタルゲート / metal gate
キーワード(4)(和/英) BTI / BTI
キーワード(5)(和/英) 隠れマルコフモデル / hidden Markov model
第 1 著者 氏名(和/英) 三木 浩史 / H. Miki
第 1 著者 所属(和/英) 日立製作所 中央研究所
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
第 2 著者 氏名(和/英) 手賀 直樹 / N. Tega
第 2 著者 所属(和/英) 日立製作所 中央研究所
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
第 3 著者 氏名(和/英) 山岡 雅直 / M. Yamaoka
第 3 著者 所属(和/英) 日立製作所 中央研究所
Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
第 4 著者 氏名(和/英) / / D. J. Frank
第 4 著者 所属(和/英) /
T. J. Watson Research Center
第 5 著者 氏名(和/英) 小林 正治 / A. Bansal
第 5 著者 所属(和/英) /
T. J. Watson Research Center
第 6 著者 氏名(和/英) / / M. Kobayashi
第 6 著者 所属(和/英) /
T. J. Watson Research Center
第 7 著者 氏名(和/英) / / K. Cheng
第 7 著者 所属(和/英) /
T. J. Watson Research Center
第 8 著者 氏名(和/英) / / C. P. D'Emic
第 8 著者 所属(和/英) /
T. J. Watson Research Center
第 9 著者 氏名(和/英) / / Z. Ren
第 9 著者 所属(和/英) /
T. J. Watson Research Center
第 10 著者 氏名(和/英) / 鳥居 和功 / S. Wu
第 10 著者 所属(和/英) 日立製作所 中央研究所
SRDC, IBM Corporation
発表年月日 2013/1/23
資料番号 SDM2012-145
巻番号(vol) vol.112
号番号(no) 421
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日