講演名 2012-09-25
磁性ガーネット膜を用いた体積磁気ホログラムの回折効率の改善(光記録技術・電子材料,一般)
相良 尚人, 正木 幸宏, 林 墓梅, 高木 宏幸, 中村 雄一, 井上 光輝,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) 大容量記録技術の一っにホログラムメモリがある。我々はこれまで,記録材料に磁性ガーネット膜を用いた磁気ホログラムの研究を行ってきた.磁性ガーネット膜は長期安定性に優れリライタブル記録を行うことができる.これら磁性材料に熱磁気書き込みを用いて記録されるホログラムは,磁化の体積的な分布に起因する位相ホログラムとして再生光が得られる.記録情報の高密度化を進めるには,体積磁気ホログラムからの回折効率の向上が重要な課題である.本報では,計算機シミュレーションと実験を組み合わせ,体積磁気ホログラムの記録過程と回折効率との関係を検討した.その結果,回折効率を向上させるには,パルス幅の短い50psecレーザを用いるのが,熱拡散を抑制して明瞭なフリンジを記録でき有効であることがわかった、
抄録(英) Abstract: The hologram memory is expected as one of the high recording density technology. We have studied magnetic garnet films ashologram material without light shielding. The hologram recorded in magnetic material by volumetric thermomagnetic writing is reconstructed as phase hologram from volumetric distribution of the magnetization. Increase of diffraction efficiency is important to achieve high recording density by volumetric magnetic hologram. In this paper, we compared computer simulation with experiments to find a better condition for high diffraction efficiency. The use of short pulse laser of 50 psec for recording was found effective to achieve high diffraction efficiency though the suppression of heat diffusio
キーワード(和) ホログラムメモリ / 磁性ガーネット / 熱磁気記録 / 熱拡散回折効率改善
キーワード(英) hologram memory / magnetic garnet film / thermomagnetic recording / thermal diffusion / improvement of diffraction efficiency
資料番号 CPM2012-88
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2012/9/18(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 磁性ガーネット膜を用いた体積磁気ホログラムの回折効率の改善(光記録技術・電子材料,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Improvement of diffraction efficiency of volumetric magnetic holograms with magnetic garnet films
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ホログラムメモリ / hologram memory
キーワード(2)(和/英) 磁性ガーネット / magnetic garnet film
キーワード(3)(和/英) 熱磁気記録 / thermomagnetic recording
キーワード(4)(和/英) 熱拡散回折効率改善 / thermal diffusion
第 1 著者 氏名(和/英) 相良 尚人 / Naoto Sagara
第 1 著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学
Toyohashi University of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 正木 幸宏 / Yukihiro Masaki
第 2 著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学
Toyohashi University of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 林 墓梅 / Pang Boey Lim
第 3 著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学
Toyohashi University of Technology
第 4 著者 氏名(和/英) 高木 宏幸 / Hiroyuki Takagi
第 4 著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学
Toyohashi University of Technology
第 5 著者 氏名(和/英) 中村 雄一 / Yuichi Nakamura
第 5 著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学
Toyohashi University of Technology
第 6 著者 氏名(和/英) 井上 光輝 / Mitsuteru Inoue
第 6 著者 所属(和/英) 豊橋技術科学大学
Toyohashi University of Technology
発表年月日 2012-09-25
資料番号 CPM2012-88
巻番号(vol) vol.112
号番号(no) 214
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日