講演名 2012-09-25
規則合金膜へのイオン照射による磁気特性制御とビットパターン構造の作製(光記録技術・電子材料,一般)
大島 大輝, 谷本 昌大, 加藤 剛志, 岩田 聡, 綱島 滋,
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抄録(和) 我々はこれまでに,Ll_2-CrPt_3規則合金膜に30 keVのKr^+イオン照射を行うことでその磁気特性が容易に制御できること,およびCrPt3を用いて高密度イオン照射型ビットパターン膜が作製できることを示してきた.本報告では,これらをまとめるとともに,Ll_2-CrPt_3の最大の課題である生成温度の高さ(850℃)を解決するために,比較的低温で作製できるMn系規則合金について検討した結果を述べる.これらの合金膜にイオン照射したところ,CrPt_3と同様,低ドーズ量での非磁性化を確認し, Mn系材料においても高密度なパターンが作製できるものと考えられる.
抄録(英) We have reported that low dose ion irradiation of 30 keV Kr^+ alters magnetic properties of L1_2-CrPt_3 ordered alloy films and that high-density ion irradiated bit patterned film is fabricated by using the CrPt3. In this report, we summarize these results and discuss Mn based ordered alloys as alternative materials since the Mn based alloys are synthesized at relatively low temperatures compared to L1_2-CrPt_3 (850 ℃). We confirmed that the ion irradiation is effective to control the magnetic properties of the Mn based alloys. This suggests the possibility of the high-density bit patterned films using the Mn based alloys.
キーワード(和) ビットパターン媒体 / イオン照射 / CrPt_3 / MnA1 / MnGa
キーワード(英) Bit patterned media / Ion irradiation / CrPt_3 / MnA1 / MnGa
資料番号 CPM2012-86
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2012/9/18(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 規則合金膜へのイオン照射による磁気特性制御とビットパターン構造の作製(光記録技術・電子材料,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Control of magnetism of ordered alloys by ion irradiation and fabrication of ion beam patterned structures
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ビットパターン媒体 / Bit patterned media
キーワード(2)(和/英) イオン照射 / Ion irradiation
キーワード(3)(和/英) CrPt_3 / CrPt_3
キーワード(4)(和/英) MnA1 / MnA1
キーワード(5)(和/英) MnGa / MnGa
第 1 著者 氏名(和/英) 大島 大輝 / Daiki OSHIMA
第 1 著者 所属(和/英) 名古屋大学工学部
School of Engineering Nagoya University
第 2 著者 氏名(和/英) 谷本 昌大 / Masahiro TANIMOTO
第 2 著者 所属(和/英) 名古屋大学工学部
School of Engineering Nagoya University
第 3 著者 氏名(和/英) 加藤 剛志 / Takeshi KATO
第 3 著者 所属(和/英) 名古屋大学工学部
School of Engineering Nagoya University
第 4 著者 氏名(和/英) 岩田 聡 / Satoshi IWATA
第 4 著者 所属(和/英) 名古屋大学工学部
School of Engineering Nagoya University
第 5 著者 氏名(和/英) 綱島 滋 / Shigeru TSUNASHIMA
第 5 著者 所属(和/英) 名古屋産業科学研究所
Nagoya Industrial Science Research Institution
発表年月日 2012-09-25
資料番号 CPM2012-86
巻番号(vol) vol.112
号番号(no) 214
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日