講演名 2012-11-29
Effect of Passivation on Drain Current Dispersion for AlGaN/GaN HEMTs
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抄録(和)
抄録(英) AlGaN/GaN HEMTs with different passivation layers were studied using pulsed I-V system. The maximum drain current showed higher values at pulsed conditions as compared with DC for SiN passivation, and vice versa for Al_2O_3, SiO_2 and without passivation. The drain current decreased with increasing the on-state time for SiN, which indicated that the most probable location of trap was at the AlGaN layer beneath the gate. Increasing tendency of drain current with increasing on-state time indicated that the surface traps were dominant for this behavior, which was the case for Al_2O_3, SiO_2, and without passivation.
キーワード(和)
キーワード(英) AlGaN/GaN HEMTs / current dispersion / passivation / pulsed IV system
資料番号 ED2012-76,CPM2012-133,LQE2012-104
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2012/11/22(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Effect of Passivation on Drain Current Dispersion for AlGaN/GaN HEMTs
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / AlGaN/GaN HEMTs
第 1 著者 氏名(和/英) / Md. Tanvir HASAN
第 1 著者 所属(和/英)
Graduate School of Engineering, University of Fukui
発表年月日 2012-11-29
資料番号 ED2012-76,CPM2012-133,LQE2012-104
巻番号(vol) vol.112
号番号(no) 327
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日