| 講演名 | 2012-11-27 超高速電気伝送を実現する回路実装技術(デザインガイア2012-VLSI設計の新しい大地) 植松 裕, 新海 剛, 村岡 諭, 柳生 正義, 大坂 英樹, |
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| 抄録(和) | 通信速度の高速化のニーズに伴い,IT機器の伝送性能も2倍/2年での向上が要求されている.そのような背景の中で装置内の伝送速度は10Gbpsを超え,基板間伝送のように伝送距離が60cm～100cmと長い系では,損失や様々な雑音起因による信号波形劣化により,伝送品質の維持が極めて難しくなっている.本稿では,5～10Gbpsを超える超高速電気信号を高信頼に伝送するための回路/実装技術について,チャネル,送受信回路,および設計技術の観点で,その課題と対応技術を紹介する. |
| 抄録(英) | With the need for faster communication speed, transmission performance increase of twice per 2 years is also required for the IT equipment. More than 10Gbps, the deterioration of the signal waveform due to transmission loss and various noise make it difficult to maintain high reliability of the system in the case of board to board transmission that has 60cm～100cm wiring length. In this report, high speed interconnect technologies, such as channel, driver/receiver circuit, and design, for transmission of reliable electrical signals in excess of 5～10Gbps are introduced and discussed. |
| キーワード(和) | 高速伝送 / 符号間干渉 / 波形等価 / 電源雑音 |
| キーワード(英) | High-speed Interconnect / Inter Symbol Interference / Equalizing / Power Supply noise |
| 資料番号 | CPM2012-112,ICD2012-76 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2012/11/20(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 超高速電気伝送を実現する回路実装技術(デザインガイア2012-VLSI設計の新しい大地) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | High-Speed Interconnect Technologies |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 高速伝送 / High-speed Interconnect |
| キーワード(2)（和/英） | 符号間干渉 / Inter Symbol Interference |
| キーワード(3)（和/英） | 波形等価 / Equalizing |
| キーワード(4)（和/英） | 電源雑音 / Power Supply noise |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 植松 裕 / Yutaka UEMATSU |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 日立製作所横浜研究所 Yokohama Laboratory, Hitachi Ltd. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 新海 剛 / Go SHINKAI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 日立製作所横浜研究所 Yokohama Laboratory, Hitachi Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 村岡 諭 / Satoshi MURAOKA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 日立製作所横浜研究所 Yokohama Laboratory, Hitachi Ltd. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 柳生 正義 / Masayoshi YAGYU |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 日立製作所横浜研究所 Yokohama Laboratory, Hitachi Ltd. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 大坂 英樹 / Hideki OSAKA |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 日立製作所横浜研究所 Yokohama Laboratory, Hitachi Ltd. |
| 発表年月日 | 2012-11-27 |
| 資料番号 | CPM2012-112,ICD2012-76 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | 323 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
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