| 講演名 | 2012-10-26 モノリシック偏波多重送信回路のためのInP偏波変換器の試作と評価(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告)) 財津 優, 肥後 昭男, 種村 拓夫, 中野 義昭, |
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| 抄録(和) | InP系モノリシック光集積回路を用いた偏波多重伝送回路の実現をめざした導波路型偏波変換器の試作・評価結果について報告する.本素子は斜め蒸着法を用いたセルフアラインプロセスで作製される非対称構造を有しており,一般的なリッジ導波路および半導体レーザと容易に集積が可能な偏波変換素子となっている.試作した素子について特性評価を行い,1510～1575nmの広い波長帯において96%以上のTE/TM変換率を,素子長150μm,過剰損失1.6dB以下で実証した.さらに,長さの異なる同素子を用いて出力のストークスパラメータを測定することにより,変換器内での偏波の振る舞いを実験的に示した. |
| 抄録(英) | We demonstrate an InP waveguide polarization converter for polarization division multiplexed photonic integrated circuit. This device features a simple fabrication method using a self-aligned process with an angled evaporation; it is suitable for the integration with other photonic devices, especially for laser diodes. More than 96%TE/TM conversion within the wavelengths of 1510-1575nm was obtained with the length of 150μm and the excess loss of less than 1.6dB. The state of polarization of the output was also measured and the polarization state in the converter was experimentally described. |
| キーワード(和) | 偏波変換器 / 光集積回路 / 非対称導波路 / セルフアラインプロセス |
| キーワード(英) | Polarization converter / photonic integrated circuit / asymmetric waveguide / self-aligned process |
| 資料番号 | OCS2012-71,OPE2012-122,LQE2012-88 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE |
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| 開催期間 | 2012/10/18(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Lasers and Quantum Electronics (LQE) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | モノリシック偏波多重送信回路のためのInP偏波変換器の試作と評価(超高速伝送・変復調・分散補償技術,超高速光信号処理技術,広帯域光増幅・WDM技術,受光デバイス,高光出力伝送技術,一般(ECOC報告)) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication and Evaluation of an InP Polarization Converter for Monolithic Polarization Division Multiplexed Photonic Integrated Circuit |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 偏波変換器 / Polarization converter |
| キーワード(2)（和/英） | 光集積回路 / photonic integrated circuit |
| キーワード(3)（和/英） | 非対称導波路 / asymmetric waveguide |
| キーワード(4)（和/英） | セルフアラインプロセス / self-aligned process |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 財津 優 / Masaru ZAITSU |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京大学先端科学技術研究センター Research Center for Advanced Science and Technology (RCAST), The University of Tokyo |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 肥後 昭男 / Akio HIGO |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京大学先端科学技術研究センター Research Center for Advanced Science and Technology (RCAST), The University of Tokyo |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 種村 拓夫 / Takuo TANEMURA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京大学先端科学技術研究センター Research Center for Advanced Science and Technology (RCAST), The University of Tokyo |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 中野 義昭 / Yoshiaki NAKANO |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京大学先端科学技術研究センター Research Center for Advanced Science and Technology (RCAST), The University of Tokyo |
| 発表年月日 | 2012-10-26 |
| 資料番号 | OCS2012-71,OPE2012-122,LQE2012-88 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | 260 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |