講演名 2012-02-07
InAsナノワイヤMISFETの高周波特性評価(機能ナノデバイス及び関連技術)
渡邉 龍郎, 乙幡 温, 和保 孝夫, / /,
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抄録(和) InAsナノワイヤMISFETを作製し、高周波Sパラメータ測定を行うことでデバイスの高周波特性を評価した。また、得られたSパラメータを用いてg_m、C_、C_などの素子パラメータを抽出した。さらに各素子パラメータの経時変化を測定し、InAs/絶縁膜界面が高周波特性へ及ぼす影響を考察した。ドレイン電流は時間とともに減少していく特性が確認された。それに伴うユニティゲイン周波数の劣化はなく、むしろ微増していく傾向が確認された。これらの経時変化は電子の界面トラップの存在を示唆している。
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 ED2011-146,SDM2011-163
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2012/1/31(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) InAsナノワイヤMISFETの高周波特性評価(機能ナノデバイス及び関連技術)
サブタイトル(和)
タイトル(英) High-frequency characterization of InAs nanowire MISFETs
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 渡邉 龍郎 / Tatsuro Watanabe
第 1 著者 所属(和/英) 上智大学理工学部
Faculty of Science and Technology, Sophia University
第 2 著者 氏名(和/英) 乙幡 温 / Yutaka Otsuhata
第 2 著者 所属(和/英) 上智大学理工学部
Faculty of Science and Technology, Sophia University
第 3 著者 氏名(和/英) 和保 孝夫 / Takao Waho
第 3 著者 所属(和/英) 上智大学理工学部
Faculty of Science and Technology, Sophia University
第 4 著者 氏名(和/英) / / / Kai Blekker
第 4 著者 所属(和/英) / /
Solid-State Electronics Department, University of Duisburg-Essen
発表年月日 2012-02-07
資料番号 ED2011-146,SDM2011-163
巻番号(vol) vol.111
号番号(no) 426
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日