講演名 2012-02-07
Deterministicドープシリコンデバイスと量子輸送現象(機能ナノデバイス及び関連技術)
品田 賢宏, 堀 匡寛, / 小野 行徳, 熊谷 国憲, 谷井 孝至 /,
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抄録(和) 単一イオン注入法によって、ドーパントが"deterministic(決定論的)"に注入されたシリコンデバイスを試作し、量子輸送特性を調査した。リンドナーを2個、6個、10個をチャネルに沿って1次元に配列させたところ、個数の増加に伴い2つの特徴的な輸送特性を観測した。1つは1個のドナーが有する2つの準位D^0とD^-を介する単一電子トンネリングに起因する特性、もう1つはドナー間カップリングによるHubbardバンドの形成に起因する特性である。ドーパント添加型デバイスの極限形として、1個のドーパントが制御されたデバイス開発に"deterministic"単一イオン注入法は効果的手段となることを実証した。
抄録(英) Si transistors with deterministically implanted donors were fabricated by single-ion implantation method and their quantum transport was investigated. By placing donors in one dimensional array, we observed the transport characteristics categorized into two regimes: single-electron tunneling through isolated D^0 and D^- states; Hubbard band formation due to the inter-donor coupling. Our deterministic doping method is more effective and reliable for single-dopant transistor development and paves the way towards single atom electronics for extended CMOS applications.
キーワード(和) Deterministicドーピング / 単一イオン注入 / 規則ドーパント配列
キーワード(英) Deterministic doping / Single-ion implantation / Ordered dopant array
資料番号 ED2011-142,SDM2011-159
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2012/1/31(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) Deterministicドープシリコンデバイスと量子輸送現象(機能ナノデバイス及び関連技術)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Deterministic-doped Silicon Devices and Their Quantum Transport
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) Deterministicドーピング / Deterministic doping
キーワード(2)(和/英) 単一イオン注入 / Single-ion implantation
キーワード(3)(和/英) 規則ドーパント配列 / Ordered dopant array
第 1 著者 氏名(和/英) 品田 賢宏 / Takahiro SHINADA
第 1 著者 所属(和/英) 早稲田大学高等研究所
Waseda Institute for Advanced Study, Waseda University
第 2 著者 氏名(和/英) 堀 匡寛 / Masahiro HORI
第 2 著者 所属(和/英) 早稲田大学理工学研究科
Graduate School of Science and Engineering, Waseda University
第 3 著者 氏名(和/英) / 小野 行徳 / Filipo GUAGLIARDO
第 3 著者 所属(和/英) ミラノ工科大学
Politecnico di Milano
第 4 著者 氏名(和/英) 熊谷 国憲 / Yukinori ONO
第 4 著者 所属(和/英) NTT物性科学基礎研究所
NTT Basic Research Laboratories
第 5 著者 氏名(和/英) 谷井 孝至 / / Kuninori KUMAGAI
第 5 著者 所属(和/英) 早稲田大学理工学研究科
Graduate School of Science and Engineering, Waseda University
発表年月日 2012-02-07
資料番号 ED2011-142,SDM2011-159
巻番号(vol) vol.111
号番号(no) 426
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日