講演名 | 2012-02-07 Deterministicドープシリコンデバイスと量子輸送現象(機能ナノデバイス及び関連技術) 品田 賢宏, 堀 匡寛, / 小野 行徳, 熊谷 国憲, 谷井 孝至 /, |
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抄録(和) | 単一イオン注入法によって、ドーパントが"deterministic(決定論的)"に注入されたシリコンデバイスを試作し、量子輸送特性を調査した。リンドナーを2個、6個、10個をチャネルに沿って1次元に配列させたところ、個数の増加に伴い2つの特徴的な輸送特性を観測した。1つは1個のドナーが有する2つの準位D^0とD^-を介する単一電子トンネリングに起因する特性、もう1つはドナー間カップリングによるHubbardバンドの形成に起因する特性である。ドーパント添加型デバイスの極限形として、1個のドーパントが制御されたデバイス開発に"deterministic"単一イオン注入法は効果的手段となることを実証した。 |
抄録(英) | Si transistors with deterministically implanted donors were fabricated by single-ion implantation method and their quantum transport was investigated. By placing donors in one dimensional array, we observed the transport characteristics categorized into two regimes: single-electron tunneling through isolated D^0 and D^- states; Hubbard band formation due to the inter-donor coupling. Our deterministic doping method is more effective and reliable for single-dopant transistor development and paves the way towards single atom electronics for extended CMOS applications. |
キーワード(和) | Deterministicドーピング / 単一イオン注入 / 規則ドーパント配列 |
キーワード(英) | Deterministic doping / Single-ion implantation / Ordered dopant array |
資料番号 | ED2011-142,SDM2011-159 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | SDM |
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開催期間 | 2012/1/31(から1日開催) |
開催地(和) | |
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講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | Deterministicドープシリコンデバイスと量子輸送現象(機能ナノデバイス及び関連技術) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Deterministic-doped Silicon Devices and Their Quantum Transport |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | Deterministicドーピング / Deterministic doping |
キーワード(2)(和/英) | 単一イオン注入 / Single-ion implantation |
キーワード(3)(和/英) | 規則ドーパント配列 / Ordered dopant array |
第 1 著者 氏名(和/英) | 品田 賢宏 / Takahiro SHINADA |
第 1 著者 所属(和/英) | 早稲田大学高等研究所 Waseda Institute for Advanced Study, Waseda University |
第 2 著者 氏名(和/英) | 堀 匡寛 / Masahiro HORI |
第 2 著者 所属(和/英) | 早稲田大学理工学研究科 Graduate School of Science and Engineering, Waseda University |
第 3 著者 氏名(和/英) | / 小野 行徳 / Filipo GUAGLIARDO |
第 3 著者 所属(和/英) | ミラノ工科大学 Politecnico di Milano |
第 4 著者 氏名(和/英) | 熊谷 国憲 / Yukinori ONO |
第 4 著者 所属(和/英) | NTT物性科学基礎研究所 NTT Basic Research Laboratories |
第 5 著者 氏名(和/英) | 谷井 孝至 / / Kuninori KUMAGAI |
第 5 著者 所属(和/英) | 早稲田大学理工学研究科 Graduate School of Science and Engineering, Waseda University |
発表年月日 | 2012-02-07 |
資料番号 | ED2011-142,SDM2011-159 |
巻番号(vol) | vol.111 |
号番号(no) | 426 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 5 |
発行日 |