| 講演名 | 2012-01-26 プリンタ用780nm帯40ch光書き込みVCSELアレイ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般) 軸谷 直人, 原 敬, 伊藤 彰浩, 庄子 浩義, 上西 盛聖, 本村 寛, 原坂 和宏, 菅原 悟, 佐藤 俊一, |
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| 抄録(和) | プリンタの書き込み光源として開発した780nm帯40チャンネル面発光型半導体レーザ(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting Laser)アレイについて報告する.本VCSELアレイでは,多層膜反射鏡の一部に設けた放熱構造の採用により発熱による特性劣化を大幅に改善し,高出力での安定動作を実現した.また,信頼性に有利なAlフリー圧縮歪GaInPAs量子井戸活性層,傾斜基板,および異方性形状高次モードフィルターの採用により,酸化狭窄面積が50μm^2の素子において,3mW以上のシングルモード出力と偏光の単一方向制御とを同時に達成し,長期信頼性に優れた,高密度で高速書き込みが可能なプリンタの書き込み光源を実現した. |
| 抄録(英) | We report 780nm range 40 channels vertical cavity surface emitting laser (VCSEL) arrays which were developed for laser printers. We improved many laser characteristics such as maximum power, thermal cross talk and long-term reliability by reducing thermal resistance of a lower multi layer reflector. We achieved both high-power single-mode operation of over 3mW and stable polarization characteristics up to oxide aperture area of 50μm^2 using compressive-strained Al-free GaInPAs active layer, misoriented substrate, and anisotropic higher transverse mode filter. |
| キーワード(和) | VCSEL / アレイ / 780nm / 多層膜反射鏡 / 熱抵抗 / シングルモード / 偏光 / 異方性 / フィルター |
| キーワード(英) | VCSEL / array / 780nm / DBR / thermal resistance / single mode / polarization / anisotropic / filter |
| 資料番号 | PN2011-49,OPE2011-165,LQE2011-151,EST2011-99,MWP2011-67 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MWP |
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| 開催期間 | 2012/1/19(から1日開催) |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Microwave and Millimeter-wave Photonics (MWP) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | プリンタ用780nm帯40ch光書き込みVCSELアレイ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | 780nm range 40 channels VCSEL array for printers |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | VCSEL / VCSEL |
| キーワード(2)（和/英） | アレイ / array |
| キーワード(3)（和/英） | 780nm / 780nm |
| キーワード(4)（和/英） | 多層膜反射鏡 / DBR |
| キーワード(5)（和/英） | 熱抵抗 / thermal resistance |
| キーワード(6)（和/英） | シングルモード / single mode |
| キーワード(7)（和/英） | 偏光 / polarization |
| キーワード(8)（和/英） | 異方性 / anisotropic |
| キーワード(9)（和/英） | フィルター / filter |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 軸谷 直人 / Naoto JIKUTANI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | (株)リコー研究開発本部東北研究所 Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 原 敬 / Kei HARA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | (株)リコー研究開発本部東北研究所 Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 伊藤 彰浩 / Akihiro ITOH |
| 第 3 著者 所属（和/英） | (株)リコー研究開発本部東北研究所 Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 庄子 浩義 / Hiroyoshi SHOUJI |
| 第 4 著者 所属（和/英） | (株)リコー研究開発本部東北研究所 Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 上西 盛聖 / Morimasa KAMINISHI |
| 第 5 著者 所属（和/英） | (株)リコー研究開発本部東北研究所 Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 本村 寛 / Hiroshi MOTOMURA |
| 第 6 著者 所属（和/英） | (株)リコー研究開発本部東北研究所 Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 原坂 和宏 / Kazuhiro HARASAKA |
| 第 7 著者 所属（和/英） | (株)リコー研究開発本部東北研究所 Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 菅原 悟 / Satoru SUGAWARA |
| 第 8 著者 所属（和/英） | (株)リコー研究開発本部東北研究所 Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 佐藤 俊一 / Shunichi SATO |
| 第 9 著者 所属（和/英） | (株)リコー研究開発本部東北研究所 Tohoku R&D Center, RICOH Co., LTD. |
| 発表年月日 | 2012-01-26 |
| 資料番号 | PN2011-49,OPE2011-165,LQE2011-151,EST2011-99,MWP2011-67 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | 416 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
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