講演名 | 2012-01-27 紫外光照射下電圧印加分極反転MgO:LiNbO_3導波路擬似位相整合第2高調波発生デバイス(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般) 北戸 英理, 井上 敏之, 藤村 昌寿, 栖原 敏明, |
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抄録(和) | 様々な非線形光学デバイスに応用可能なMgO:LiNbO_3周期分極反転構造を作製する方法として、我々は独自の作製法である紫外光照射下室温2段階電圧印加法を見出した。この方法はリソグラフィや加熱等が不要で簡便な作製法であり、2段階の電圧印加を行って結晶貫通分極反転構造を得る。この方法で作製した周期分極反転構造を用いて導波路波長変換デバイスを作製し、実験を行って理論予測と近い結果を得、紫外光照射下室温2段階電圧印加法の有用性を実証した。 |
抄録(英) | We have proposed a new simple method for fabrication of domain-inverted gratings in MgO:LiNbO_3, i.e., 2-step voltage application under ultraviolet light. The method is simple in that this does not require lithography process and crystal heating. We found that 2-step voltage application is effective for fabrication of domain-inverted gratings over entire crystal thickness. A high quality grating of 19μm period was formed and applied to a waveguide quasi-phase-matched second-harmonic generation (QPM-SHG) device for pumping at 1.55μm wavelength. High applicability of the method to QPM device fabrication was demonstrated. |
キーワード(和) | 分極反転 / MgO:LiNbO_3 / 非線形光学 / 擬似位相整合 |
キーワード(英) | Domain inversion / MgO:LiNbO_3 / Nonlinear optics / Quasi-phasematching |
資料番号 | PN2011-80,OPE2011-196,LQE2011-182,EST2011-130,MWP2011-98 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | PN |
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開催期間 | 2012/1/19(から1日開催) |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Photonic Network (PN) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 紫外光照射下電圧印加分極反転MgO:LiNbO_3導波路擬似位相整合第2高調波発生デバイス(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | MgO:LiNbO_3 Waveguide Quasi-Phase-Matched Second-Harmonic Generation Devices Fabricated by Voltage Application under UV Light |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 分極反転 / Domain inversion |
キーワード(2)(和/英) | MgO:LiNbO_3 / MgO:LiNbO_3 |
キーワード(3)(和/英) | 非線形光学 / Nonlinear optics |
キーワード(4)(和/英) | 擬似位相整合 / Quasi-phasematching |
第 1 著者 氏名(和/英) | 北戸 英理 / Eri KITADO |
第 1 著者 所属(和/英) | 大阪大学工学研究科 Graduate School of Engineering, Osaka University |
第 2 著者 氏名(和/英) | 井上 敏之 / Toshiyuki INOUE |
第 2 著者 所属(和/英) | 大阪大学工学研究科 Graduate School of Engineering, Osaka University |
第 3 著者 氏名(和/英) | 藤村 昌寿 / Masatoshi FUJIMURA |
第 3 著者 所属(和/英) | 大阪大学工学研究科 Graduate School of Engineering, Osaka University |
第 4 著者 氏名(和/英) | 栖原 敏明 / Toshiaki SUHARA |
第 4 著者 所属(和/英) | 大阪大学工学研究科 Graduate School of Engineering, Osaka University |
発表年月日 | 2012-01-27 |
資料番号 | PN2011-80,OPE2011-196,LQE2011-182,EST2011-130,MWP2011-98 |
巻番号(vol) | vol.111 |
号番号(no) | 412 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 4 |
発行日 |