講演名 | 2011-12-15 逆量子化手続きを利用したビット長伸長処理(RFID関連技術,システムオンシリコン,一般) 西山 譲二, 田口 亮, |
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抄録(和) | ビット長伸長処理は低ビットの画像を高ビット長表示可能なディスプレイに表示する場合に不可欠な処理となる.従来のZero Padding (ZP)法やMultiplication-by-an-ideal-gain (MIG)法ではビット長伸長を行った画像の背景等の変化の緩やかな部分に擬似輪郭が生じてしまう.ビット長伸長画像において擬似輪郭を回避するためには,低ビット画像に対して高精度な逆量子化手続きを施し,その後,指定のビット長に再量子化する必要がある.本論文では低ビット信号をMIG法で高ビット長のダイナミックレンジに合わせた後に逆量子化操作を行う.逆量子化操作は基本的には低域通過型フィルタ処理であるが,高精度な逆量子化操作を行うためにはエッジ保存型フィルタを用いて,さらにその出力範囲を制限する必要がある.擬似輪郭回避のためには,背景等の平坦部において窓領域をかなり大きくとる必要があり,よって,画像の処理点ごとに窓領域を可変できることも必要となる.そこで,本論文では,局所情報に基づく窓領域可変のε-フィルタを用いることで高精度な逆量子化手続きを可能とする.4ビットから6ビットへの伸長処理に対する豊富な処理例から,ZP法に比較してPSNRで5~7dBの画質向上を.MIG法に対して1.3~2.2dBの画質向上が図られることを明らかにする.また,ZP法でビット長伸長を図った画像には擬似輪郭が生じるが提案法はその擬似輪郭を完全に回避できることも示す。 |
抄録(英) | The bit-length is decided by the quantization of image capture devices. Therefore the bit-length expansion technique is also necessary for low bit-length captured images. If we expand bit-length of these images by using most bit-length expanding algorithms, pseudo contouring effect is observed in smooth gradient area. The bit-length expansion process and inverse quantization process are equivalent. Inverse quantization is able to perform by suitable filtering. In this paper, the bit-length expansion method using a nonlinear filter with adaptive window size is proposed. We show the excellent bit-length expanded results which are obtained by the proposed method. |
キーワード(和) | ビット長伸長 / 逆量子化 / ε-フィルタ / データ依存型処理 |
キーワード(英) | bit-length expansion / inverse quantization process / ε-filtering / data dependent process |
資料番号 | SIS2011-42 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | SIS |
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開催期間 | 2011/12/8(から1日開催) |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Smart Info-Media Systems (SIS) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 逆量子化手続きを利用したビット長伸長処理(RFID関連技術,システムオンシリコン,一般) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Bit-length Expansion by Inverse Quantization Process |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | ビット長伸長 / bit-length expansion |
キーワード(2)(和/英) | 逆量子化 / inverse quantization process |
キーワード(3)(和/英) | ε-フィルタ / ε-filtering |
キーワード(4)(和/英) | データ依存型処理 / data dependent process |
第 1 著者 氏名(和/英) | 西山 譲二 / Johji NISHIYAMA |
第 1 著者 所属(和/英) | 東京都市大学工学部生体医工学科 Department of Biomedical Engineering, Tokyo City University |
第 2 著者 氏名(和/英) | 田口 亮 / Akira TAGUCHI |
第 2 著者 所属(和/英) | 東京都市大学工学部生体医工学科 Department of Biomedical Engineering, Tokyo City University |
発表年月日 | 2011-12-15 |
資料番号 | SIS2011-42 |
巻番号(vol) | vol.111 |
号番号(no) | 342 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 4 |
発行日 |