講演名 2011-11-29
次世代LSIプロセス・材料開発に活きる超精密製造・計測技術開発 : 光技術と精密機械技術の協働による次世代原子スケール生産技術開拓(招待講演,異種デバイス集積化/高密度実装技術,デザインガイア2011-VLSI設計の新しい大地-)
久保田 弘, 宗 勇樹, 松川 誠也, 小坂 光二, 京谷 忠幸,
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抄録(和) 熊本大学を中心に熊本地域で開発した非共振型超音波モーター技術は、削りかすパーティクルの出ない超精密長寿命性能の超音波モーターを実現させ、半導体等の精密製造・計測技術に新たな革命をもたらした。その量産技術への代表的な応用例として、触覚センサープロセス、グラフェン新材料開発、原子レベル酸化超薄膜欠陥検査について紹介し、次世代LSIプロセス・材料開発における日本の科学技術の方向性を示したい。
抄録(英) Beyond the high-mix low-volume manufacturing era, advanced semiconductor production requires various kinds of products in large lots instead of the low-volume ones because the production line should keep running to realize the reduction of the cost by quantity output effect. The set of the individual products in the line should be converted quickly and reset dynamically. What we have to develop are, 1) fine NaPFA scales (nano-, pico-, femt-, atto-scales) syntheses and metrologies, 2)knowledge based IT techniques, e.g. virtual metrology, feed forward control, statistical fault detection. We present Ultra-precision measurement & fabrication technology by using of opto-mechanical methods.
キーワード(和) 次世代LSI / 量産高度化 / 多品種量産 / 高信頼性 / 低コスト量産 / 原子レベル量産
キーワード(英) Next generation LSI / mass-production / atomic scale production
資料番号 CPM2011-157,ICD2011-89
発行日

研究会情報
研究会 ICD
開催期間 2011/11/21(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Integrated Circuits and Devices (ICD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 次世代LSIプロセス・材料開発に活きる超精密製造・計測技術開発 : 光技術と精密機械技術の協働による次世代原子スケール生産技術開拓(招待講演,異種デバイス集積化/高密度実装技術,デザインガイア2011-VLSI設計の新しい大地-)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Ultra-precision measurement & fabrication technology of LSI and its materials for the next generation : Toward the atomic scale production applying novel opto-machanical methods
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 次世代LSI / Next generation LSI
キーワード(2)(和/英) 量産高度化 / mass-production
キーワード(3)(和/英) 多品種量産 / atomic scale production
キーワード(4)(和/英) 高信頼性
キーワード(5)(和/英) 低コスト量産
キーワード(6)(和/英) 原子レベル量産
第 1 著者 氏名(和/英) 久保田 弘 / Hiroshi KUBOTA
第 1 著者 所属(和/英) 熊本大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Science and Technology Kumamoto University
第 2 著者 氏名(和/英) 宗 勇樹 / Yuki SOH
第 2 著者 所属(和/英) 熊本大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Science and Technology Kumamoto University
第 3 著者 氏名(和/英) 松川 誠也 / Seiya MATSUKAWA
第 3 著者 所属(和/英) 熊本大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Science and Technology Kumamoto University
第 4 著者 氏名(和/英) 小坂 光二 / Kouji KOSAKA
第 4 著者 所属(和/英) 株式会社ピーエムティー
R&D Division, PMT Corporation
第 5 著者 氏名(和/英) 京谷 忠幸 / Tadayuki KYOTANI
第 5 著者 所属(和/英) 株式会社ピーエムティー
R&D Division, PMT Corporation
発表年月日 2011-11-29
資料番号 CPM2011-157,ICD2011-89
巻番号(vol) vol.111
号番号(no) 327
ページ範囲 pp.-
ページ数 3
発行日