講演名 2011-10-26
MOVPE法による中間組成域n-InAlN/p-InGaNヘテロ接合の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
堀田 徹, 杉田 憲一, / 橋本 明弘, 山木 〓勇,
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抄録(和) InGaNとInAINによるヘテロ構造デバイス作製にむけて、MOVPE法を用いて単層でのInAlN、InGaNの成長条件を確立し、中間組成領域のInAlNとInGaNとのヘテロ構造の作製を検討した。その結果、相分離やIn析出のないn-In_<0.3>Al_<0.7>N/p-In_<0.2>Ga_<0.8>Nヘテロ接合を作製し、この構造で初めて整流性と光応答を確認した。
抄録(英) MOVPE growth of InAlN and InGaN has been studied in order to develop basic technologies for InAlN/InGaN heterostructure devices. By changing growth temperature and TMI/(TMI+TEG) or TMI/(TMI+TMA) molar ratio, single crystalline InGaN and InAIN films with an intermediate composition range have been grown without phase separation and metallic In inclusions. A n-In_<0.3>Al_<0.7>N/p-In_<0.2>Ga_<0.8>N hetero-structure has been successfully prepared and its rectification behavior and photo-response has been confirmed for the first time.
キーワード(和) InAlN / InGaN / ヘテロ接合 / MOVPE
キーワード(英) InAIN / InGaN / heterojunction / MOVPE.
資料番号 CPM2011-113
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2011/10/19(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) MOVPE法による中間組成域n-InAlN/p-InGaNヘテロ接合の作製(薄膜プロセス・材料,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) MOVPE growth of n-InAlN/p-InGaN heterojunction with an intermediate In composition range
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) InAlN / InAIN
キーワード(2)(和/英) InGaN / InGaN
キーワード(3)(和/英) ヘテロ接合 / heterojunction
キーワード(4)(和/英) MOVPE / MOVPE.
第 1 著者 氏名(和/英) 堀田 徹 / T. Hotta
第 1 著者 所属(和/英) 福井大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, University of Fukui
第 2 著者 氏名(和/英) 杉田 憲一 / K. Sugita
第 2 著者 所属(和/英) 福井大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, University of Fukui
第 3 著者 氏名(和/英) / 橋本 明弘 / A. G. Bhuiyan
第 3 著者 所属(和/英) 福井大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, University of Fukui
第 4 著者 氏名(和/英) 山木 〓勇 / A. Hashimoto
第 4 著者 所属(和/英) 福井大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, University of Fukui
発表年月日 2011-10-26
資料番号 CPM2011-113
巻番号(vol) vol.111
号番号(no) 264
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日