| 講演名 | 2011-08-10 プラズマCVD法によるSiおよびN同時添加DLC膜特性に対する水素の影響 奥野 さおり, 三浦 創史, 鎌田 亮輔, 中澤 日出樹, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | ダイヤモンドライクカーボン(DLC)の膜特性の改善のために、SiおよびN源にヘキサメチルジシラザン(HMDS)を用いたプラズマCVD法によりSiおよびN同時添加DLC膜を作製し、希釈ガスの違いによるDLC膜特性の変化を調べた。原料ガスとしてCH_4およびHMDS、希釈ガスとしてArまたはH_2を用い、基板には直流負バイアスを印加した。CH_4に対するHMDS流量比の増加に伴い、内部応力および摩擦係数は減少し、付着力は増加した。また、H_2希釈によって微粒子の発生を抑制できることがわかった。Arに比べてH_2を用いたときの方が、摩擦係数は減少し、密着性および耐摩耗性が向上した。 |
| 抄録(英) | To further improve the properties of diamond-like carbon (DLC) films, we have deposited Si- and N-coincorporated DLC (Si-N-DLC) films by radio-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition using hexamethyldisilazane (HMDS) as a Si and N source, and investigated in detail the effects of dilution gas on the film properties. CH_4 and HMDS were used to deposit Si-N-DLC films, and they were diluted with Ar or H_2 during deposition. A DC bias applied to the substrate was used to increase the incident ion energy. The internal stress and friction coefficient decreased and the adhesion strength increased with increasing HMDS flow ratio [HMDS/(HMDS+CH_4)]. It was found that H2 dilution was effective in suppressing the formation of particles and further decreasing the friction coefficient and increasing the adhesion strength and wear resistance. |
| キーワード(和) | ダイヤモンドライクカーボン / プラズマ化学気相成長法 / シリコン / 窒素 |
| キーワード(英) | Diamond-like carbon / Plasma-enhanced chemical vapor deposition / Silicon / Nitrogen |
| 資料番号 | CPM2011-62 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
|---|---|
| 開催期間 | 2011/8/3(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | プラズマCVD法によるSiおよびN同時添加DLC膜特性に対する水素の影響 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Hydrogen effects on the properties of Si- and N-coincorporated diamond-like carbon films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ダイヤモンドライクカーボン / Diamond-like carbon |
| キーワード(2)（和/英） | プラズマ化学気相成長法 / Plasma-enhanced chemical vapor deposition |
| キーワード(3)（和/英） | シリコン / Silicon |
| キーワード(4)（和/英） | 窒素 / Nitrogen |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 奥野 さおり / Saori OKUNO |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 弘前大学大学院理工学研究科 Faculty of Science and Technology, Hirosaki University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 三浦 創史 / Soshi MIURA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 弘前大学大学院理工学研究科 Faculty of Science and Technology, Hirosaki University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 鎌田 亮輔 / Ryosuke KAMATA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 弘前大学大学院理工学研究科 Faculty of Science and Technology, Hirosaki University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 中澤 日出樹 / Hideki NAKAZAWA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 弘前大学大学院理工学研究科 Faculty of Science and Technology, Hirosaki University |
| 発表年月日 | 2011-08-10 |
| 資料番号 | CPM2011-62 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | 176 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |