| 講演名 | 2011-08-10 TSFZ法による高温超伝導体Bi-2223単結晶の育成と評価 足立 伸太郎, 臼井 友洋, 橋本 雄三, 渡辺 孝夫, 藤井 武則, |
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| 抄録(和) | 高温超伝導体Bi_2Sr_2Ca_2Cu_3O_<10+^^^o>(Bi-2223)は、結晶育成中に不純物としてBi_2Sr_2CaCu_2O_<8+δ>(Bi-2212)が混入しやすいため、良質な単結晶を得ることが難しい。本研究では、より再現性良くBi-2223の単結晶を得るためのTSFZ法(溶媒移動型浮遊帯域法)による育成条件を検討した。まず、Bi-2223は溶融帯の過飽和度が小さいということを考慮し、育成速度を0.03mm/hというとても遅い値にした。さらに、育成雰囲気をO_210%+Ar90%にしたところ、育成中の比較的早い段階からほぼ単相のBi-2223が成長していることを確認した。また、仕込み組成でBiの比率を高めることが効果的であることも分かってきた。 |
| 抄録(英) | It is difficult to obtain high quality single crystal high-Tc superconductor Bi_2Sr_2Ca_2Cu_3O_<10+δ>(Bi-2223). In this research, we investigate the growth condition for obtaining high quality Bi-2223 single crystal by TSFZ method (Traveling Solvent Floating-Zone method). First, we adopted exceedingly slow growth rate of 0.03mm/h, because of an insufficient supersaturation. Second, we adopted a mixed gas flow of O_2 10% and Ar 90%. By these methods, almost single-phase Bi-2223 crystals have been grown from an early growth stage. |
| キーワード(和) | 高温超伝導体 / TSFZ法 / Bi-2223 / 単結晶 |
| キーワード(英) | high-Tc superconductor / TSFZ method / Bi-2223 / single crystal |
| 資料番号 | CPM2011-60 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2011/8/3(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | TSFZ法による高温超伝導体Bi-2223単結晶の育成と評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Single crystal growth and characterization of high-Tc superconductor Bi-2223 by TSFZ method |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 高温超伝導体 / high-Tc superconductor |
| キーワード(2)（和/英） | TSFZ法 / TSFZ method |
| キーワード(3)（和/英） | Bi-2223 / Bi-2223 |
| キーワード(4)（和/英） | 単結晶 / single crystal |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 足立 伸太郎 / Shintaro Adachi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 弘前大学大学院理工学研究科 Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 臼井 友洋 / Tomohiro Usui |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 弘前大学大学院理工学研究科 Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 橋本 雄三 / Yuzo Hashimoto |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 弘前大学大学院理工学研究科 Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 渡辺 孝夫 / Takao Watanabe |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 弘前大学大学院理工学研究科 Graduate School of Science and Technology, Hirosaki University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 藤井 武則 / Takenori Fujii |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東京大学低温センター Cryogenic Research Center, University of Tokyo |
| 発表年月日 | 2011-08-10 |
| 資料番号 | CPM2011-60 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | 176 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |