講演名 2011-06-30
触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いて成長したZnO結晶薄膜の電気特性(材料デバイスサマーミーティング)
里本 宗一, 田原 将巳, 三浦 仁嗣, 加藤 孝弘, 安井 寛治,
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抄録(和) 白金ナノ粒子表面での水素と酸素の発熱反応を利用して高エネルギーH_2Oを生成、アルキル亜鉛ガスと衝突させ生成した高エネルギーZnOプリカーサを基板に供給、サファイアA面基板上にバッファ層を挿入せず直接ZnO結晶膜を成長させた。結晶膜の電気伝導特性を調べたところ、室温でのHal1移動度は最大で169cm^2/Vsという良好な特性を示した。いくつかのサンプルついて温度特性を測定したところ室温でのHall移動度が100cm^2/Vsを越えるサンプルでは室温から100~120Kまで移動度は増加し最大値を示し更に低温になると大きく減少した。残留キャリア密度も70-100Kまで減少した後70K以下で増加し室温でのキャリア密度とほぼ同じ値まで増加した。これらのことから、成長初期層に膜内部に残留キャリア密度が高く移動度の低い特性を有する部分が存在していることが推察された。
抄録(英) Electrical properties of ZnO thin films, which were grown through a reaction between dimethylzinc and high-energy H_2O produced by a Pt-catalyzed H_2-O_2 reaction, were measured. The films were grown directly on a-plane (11-20) sapphire substrates at 773-873 K without a buffer layer. The maximum Hall mobility was 169cm^2/Vs. From the temperature dependence of the mobility and carrier concentration, presence of a degenerate layer, which has large defect density, between the ZnO film and the substrate was presumed.
キーワード(和) ZnO / 触媒反応 / CVD / Hall移動度 / キャリア密度
キーワード(英) ZnO / catalytic reaction / high-energy H_2O / Hall mobility / carrier density
資料番号 EMD2011-10,CPM2011-46,OME2011-24
発行日

研究会情報
研究会 EMD
開催期間 2011/6/23(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electromechanical Devices (EMD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いて成長したZnO結晶薄膜の電気特性(材料デバイスサマーミーティング)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Electrical properties of ZnO films grown on sapphire substrates using high-energy H_2O generated by a catalytic reaction
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ZnO / ZnO
キーワード(2)(和/英) 触媒反応 / catalytic reaction
キーワード(3)(和/英) CVD / high-energy H_2O
キーワード(4)(和/英) Hall移動度 / Hall mobility
キーワード(5)(和/英) キャリア密度 / carrier density
第 1 著者 氏名(和/英) 里本 宗一 / Souichi SATOMOTO
第 1 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学
Faculty of Engineering, Nagaoka University of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 田原 将巳 / Masami TAHARA
第 2 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学
Faculty of Engineering, Nagaoka University of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 三浦 仁嗣 / Hitoshi MIURA
第 3 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学
Faculty of Engineering, Nagaoka University of Technology
第 4 著者 氏名(和/英) 加藤 孝弘 / Takahiro KATO
第 4 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学
Faculty of Engineering, Nagaoka University of Technology
第 5 著者 氏名(和/英) 安井 寛治 / Kanji YASUI
第 5 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学
Faculty of Engineering, Nagaoka University of Technology
発表年月日 2011-06-30
資料番号 EMD2011-10,CPM2011-46,OME2011-24
巻番号(vol) vol.111
号番号(no) 108
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日