講演名 2011-05-20
GaInNチャンネルHFETのAlInNバリア層の検討(FET,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
池田 和弥, 磯部 康裕, 一木 宏充, 堀尾 尚文, 榊原 辰幸, 岩谷 素顕, 竹内 哲也, 上山 智, 赤崎 勇, 天野 浩,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) ヘテロ接合電界効果トランジスタ(HFET)のチャネル層にGaInNを用いることにより、高いバンドオフセットを持つこと、さらにはInN中の伝導帯電子の有効質量が軽いことから、究極的な大電力動作可能なデバイスが期待される。さらに、AlInNは大きなバンドオフセット、及びGaInNと作製温度が近いという特長を有している。本研究では、AlInNをバリア層に使用したAlInN/AlN/GaInN/GaN HFET構造を作製し良好な静特性を確認した。
抄録(英) GaInN channel heterostructure field-effect transistors (HFETs) are promising for applications involving high operation current because they spontaneously produce high-density sheet carriers and strongly confine two-dimensional electron gases (2DEGs) owing to their large conduction band offset, and the large polarization charges. HFET using an AlInN barrier layer is also promising for a lattice-matched large-bandgap barrier structure. In addition, the MOVPE growth conditions for GaInN channel and AlInN barriers are similar. Thus, the combination of these materials is expected to achieve high-performance HFETs. In this study, we report on the electrical properties of AlInN/GaInN based heterostructures fabricated on a GaN template. We also fabricated and characterized AlInN/GaInN HFETs.
キーワード(和) AlInN / GaInN / AlN / HFET
キーワード(英) AlInN / GaInN / AlN / HFET
資料番号 ED2011-35,CPM2011-42,SDM2011-48
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2011/5/12(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 JPN
タイトル(和) GaInNチャンネルHFETのAlInNバリア層の検討(FET,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
サブタイトル(和)
タイトル(英) Study on AlInN barrier layer of GaInN channel HFET
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) AlInN / AlInN
キーワード(2)(和/英) GaInN / GaInN
キーワード(3)(和/英) AlN / AlN
キーワード(4)(和/英) HFET / HFET
第 1 著者 氏名(和/英) 池田 和弥 / Kazuya IKEDA
第 1 著者 所属(和/英) 名城大学理工学部
Fac. Sci. & Eng., Meijo University
第 2 著者 氏名(和/英) 磯部 康裕 / Yasuhiro ISOBE
第 2 著者 所属(和/英) 名城大学理工学部
Fac. Sci. & Eng., Meijo University
第 3 著者 氏名(和/英) 一木 宏充 / Hiromichi IKKI
第 3 著者 所属(和/英) 名城大学理工学部
Fac. Sci. & Eng., Meijo University
第 4 著者 氏名(和/英) 堀尾 尚文 / Naofumi HORIO
第 4 著者 所属(和/英) 名城大学理工学部
Fac. Sci. & Eng., Meijo University
第 5 著者 氏名(和/英) 榊原 辰幸 / Tatsuyuki SKAKIBARA
第 5 著者 所属(和/英) 名城大学理工学部
Fac. Sci. & Eng., Meijo University
第 6 著者 氏名(和/英) 岩谷 素顕 / Motoaki IWAYA
第 6 著者 所属(和/英) 名城大学理工学部
Fac. Sci. & Eng., Meijo University
第 7 著者 氏名(和/英) 竹内 哲也 / Tetsuya TAKEUCHI
第 7 著者 所属(和/英) 名城大学理工学部
Fac. Sci. & Eng., Meijo University
第 8 著者 氏名(和/英) 上山 智 / Satoshi KAMIYAMA
第 8 著者 所属(和/英) 名城大学理工学部
Fac. Sci. & Eng., Meijo University
第 9 著者 氏名(和/英) 赤崎 勇 / Isamu AKASAKI
第 9 著者 所属(和/英) 名城大学理工学部:名古屋大学赤崎記念研究センター
Fac. Sci. & Eng., Meijo University:Akasaki Research Center, Nagoya University
第 10 著者 氏名(和/英) 天野 浩 / Hiroshi AMANO
第 10 著者 所属(和/英) 名古屋大学工学研究科:名古屋大学赤崎記念研究センター
Grad. Sch. of Eng., Nagoya University:Akasaki Research Center, Nagoya University
発表年月日 2011-05-20
資料番号 ED2011-35,CPM2011-42,SDM2011-48
巻番号(vol) vol.111
号番号(no) 44
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日