| 講演名 | 2011-05-27 ベンゾフェノンSAM膜を用いたポリビニルカルバゾール膜のパターン形成(作製・評価技術・一般,有機材料・一般) 大塚 華恵, 金 性湖, / 田中 邦明, / 臼井 博明, |
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| 抄録(和) | エレクトロニクスルミネセンス(EL)素子をはじめとする有機デバイスでは,基板・膜界面の制御と薄膜パターン形成が重要な課題である.本研究ではこの問題に対して,界面に自己組織化膜(SAM)を形成することで解決する手法を試みた.末端にベンゾフェノン(BP)を持つSAMを酸化インジウムスズ(ITO)表面に形成し,その表面にスピンコート膜を形成した後,紫外光(UV)を照射することにより,SAMを介して界面に安定な結合を形成することを試みた.この手法を応用し,付着強度に優れたポリビニルカルバゾール(PVK)膜を形成した.さらにUV照射部分にのみ,選択的にPVKをパターニングすることができた.さらに,界面のSAMは電荷注入の障壁とはならないことが示された. |
| 抄録(英) | The control of substrate/film interface and pattern formation are among the most important process techniques for the construction of organic electronics devices such as electroluminescence (EL) cell. This paper proposes to solve these issues by forming a SAM that has benzophenone (BP) end group. The SAM was prepared on the indium-tin oxide (ITO) surface on which a polyvinylcarbazole (PVK) thin film was deposited by spin-coating. Subsequent UV irradiation causes the BP-SAM to form stable chemical bonds between the film and the substrate, improving the film-substrate adhesion strength. Moreover, patterning of the film was made possible by selective irradiation of UV. It was confirmed that the SAM layer did not impede the charge injection at the interface. |
| キーワード(和) | 自己組織化膜 / SAM / ベンゾフェノン / ポリビニルカルバゾール / 表面処理 / UV照射 |
| キーワード(英) | self-assembled monolayer / SAM / benzophenone / polyvinylcarbazole / surface treatment / UV irradiation |
| 資料番号 | OME2011-16 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
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| 開催期間 | 2011/5/20(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ベンゾフェノンSAM膜を用いたポリビニルカルバゾール膜のパターン形成(作製・評価技術・一般,有機材料・一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Patterning of Poly(vinylcarbazole) Thin Films by Use of Benzophenone SAM |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 自己組織化膜 / self-assembled monolayer |
| キーワード(2)（和/英） | SAM / SAM |
| キーワード(3)（和/英） | ベンゾフェノン / benzophenone |
| キーワード(4)（和/英） | ポリビニルカルバゾール / polyvinylcarbazole |
| キーワード(5)（和/英） | 表面処理 / surface treatment |
| キーワード(6)（和/英） | UV照射 / UV irradiation |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 大塚 華恵 / Hanae Ohtsuka |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京農工大学院 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 金 性湖 / Seong-Ho Kim |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京農工大学院 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | / 田中 邦明 / M.C.R. Tria |
| 第 3 著者 所属（和/英） | ヒューストン大学 University of Houston |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | / 臼井 博明 / Kuniaki Tanaka |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京農工大学院 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 発表年月日 | 2011-05-27 |
| 資料番号 | OME2011-16 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | 73 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |