| 講演名 | 2011-05-27 低分子スピンコート膜の光重合による燐光性高分子薄膜のパターン形成(作製・評価技術・一般,有機材料・一般) 宮川 大地, 室山 雅和, 田中 邦明, 臼井 博明, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | アクリルモノマー,光重合開始剤,及び発光性ドーパントの低分子混合溶液をスピンコートし,フォトマスクを介して紫外線(UV)照射を行い,有機溶媒で未重合部分を除去することによって高分子薄膜パターンを形成した.アクリルモノマーに2-(9H-Carbazol-9-yl)ethylmethacrylate,光重合開始剤に4-(Dimethylamino)benzophenone,ドーパントとしてIridium(III)Bis(2-phenylpyridinate(4-vinylphenylpyridine))を用いた.製膜溶媒はtetrahydrofuranと1,4-dioxaneの混合溶媒が適当であり,現像溶媒としてはethanolが良好な結果を与えた.露光は製製膜後直ちに行う必要があり,60mW/cm^2以上の強度で均質な重合膜が得られ,露光時間の増大とともに現像後の膜厚も増大した.このようにして得られた薄膜パターンを発光層として利用した有機EL素子の動作確認を行った. |
| 抄録(英) | Patterned polymer thin films were prepared by spin-coating a solution of small molecules including an acryl monomer, a photoinitiator, and an emissive dopant, followed by UV irradiation through a photomask and dissolving the unirradiated parts by an organic solvent. 2-(9H-Carbazol-9-yl)ethylmethacrylate was used as the monomer and 4-(Dimethylamino) benzophenone was used as the initiator. For the dopant, Iridium(III) bis(2-phenylpyridinate(4-vinylphenylpyridine)) was employed. It was found that a mixture of tetrahydrofuran and 1,4-dioxane is convenient for the coating solvent. Ethanol gave a satisfactory result as the developing solvent. It was important to perform the UV exposure shortly after the spin-coating. UV power higher than 60 mW/cm^2 was required to obtain a uniform pattern. The exposure time did not influence the pattern uniformity but controlled the film thickness after the development. The patterned film was used as an emissive layer to construct an organic light emitting diode. |
| キーワード(和) | 光重合 / パターン形成 / カルバゾール / スピンコート / 有機EL |
| キーワード(英) | photopolymerization / patterning / carbazole / spin-coating / OLED |
| 資料番号 | OME2011-14 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
|---|---|
| 開催期間 | 2011/5/20(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 低分子スピンコート膜の光重合による燐光性高分子薄膜のパターン形成(作製・評価技術・一般,有機材料・一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Patterning of Phosphorescent Polymer Layer by Spin-Coating of Photoreactive Monomer Film |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光重合 / photopolymerization |
| キーワード(2)（和/英） | パターン形成 / patterning |
| キーワード(3)（和/英） | カルバゾール / carbazole |
| キーワード(4)（和/英） | スピンコート / spin-coating |
| キーワード(5)（和/英） | 有機EL / OLED |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 宮川 大地 / Daichi MIYAGAWA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 室山 雅和 / Masakazu MUROYAMA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 田中 邦明 / Kuniaki TANAKA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 臼井 博明 / Hiroaki USUI |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 発表年月日 | 2011-05-27 |
| 資料番号 | OME2011-14 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | 73 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |