講演名 2011-04-22
超高Δ石英系導波路に於ける紫外光誘起屈折率変化(光部品・光デバイスの実装・信頼性,一般)
阿部 淳, 伊東 雅之, 小湊 俊海, 那須 悠介, 井藤 幹隆,
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抄録(和) 超高Δ石英系光回路を構成する導波路として有望とされるTa_2O_5添加石英系導波路,並びにSiON導波路に関して,AfFエキシマレーザー光を照射し,誘起される屈折率変化,及び損失変化に関する特性をアレイ導波路波長合分波器(AWG)を用いて評価した.又,誘起屈折率変化,誘起損失の熱緩和特性を評価し,光回路における光路長調整応用に関して検討した.
抄録(英) We demonstrate the photosensitivity of an extremely high index contrast Ta_2O_5-doped silica and SiON waveguide using an arrayed-waveguide grating multi/demultiplexer. We investigated the UV induced refractive index change and insertion loss increase. We also investigated their thermal relaxation.
キーワード(和) 石英 / 導波路 / 光回路 / PLC / 紫外光 / 光誘起 / 屈折率変化 / photosensitivity / AWG
キーワード(英) silica / waveguide / lightwave circuit / PLC / UV / index change / photosensitivity / AWG
資料番号 R2011-7,CPM2011-7,OPE2011-7
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2011/4/15(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 超高Δ石英系導波路に於ける紫外光誘起屈折率変化(光部品・光デバイスの実装・信頼性,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Photosensitivity in Extremely High Index Contrast Silica-based Waveguides on Si
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 石英 / silica
キーワード(2)(和/英) 導波路 / waveguide
キーワード(3)(和/英) 光回路 / lightwave circuit
キーワード(4)(和/英) PLC / PLC
キーワード(5)(和/英) 紫外光 / UV
キーワード(6)(和/英) 光誘起 / index change
キーワード(7)(和/英) 屈折率変化 / photosensitivity
キーワード(8)(和/英) photosensitivity / AWG
キーワード(9)(和/英) AWG
第 1 著者 氏名(和/英) 阿部 淳 / Makoto ABE
第 1 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
NTT Photonics Labs. NTT Corp.
第 2 著者 氏名(和/英) 伊東 雅之 / Masayuki ITOH
第 2 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
NTT Photonics Labs. NTT Corp.
第 3 著者 氏名(和/英) 小湊 俊海 / Toshimi KOMINATO
第 3 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
NTT Photonics Labs. NTT Corp.
第 4 著者 氏名(和/英) 那須 悠介 / Yusuke NASU
第 4 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
NTT Photonics Labs. NTT Corp.
第 5 著者 氏名(和/英) 井藤 幹隆 / Mikitaka ITOH
第 5 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
NTT Photonics Labs. NTT Corp.
発表年月日 2011-04-22
資料番号 R2011-7,CPM2011-7,OPE2011-7
巻番号(vol) vol.111
号番号(no) 15
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日