講演名 | 2011-04-22 超高Δ石英系導波路に於ける紫外光誘起屈折率変化(光部品・光デバイスの実装・信頼性,一般) 阿部 淳, 伊東 雅之, 小湊 俊海, 那須 悠介, 井藤 幹隆, |
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抄録(和) | 超高Δ石英系光回路を構成する導波路として有望とされるTa_2O_5添加石英系導波路,並びにSiON導波路に関して,AfFエキシマレーザー光を照射し,誘起される屈折率変化,及び損失変化に関する特性をアレイ導波路波長合分波器(AWG)を用いて評価した.又,誘起屈折率変化,誘起損失の熱緩和特性を評価し,光回路における光路長調整応用に関して検討した. |
抄録(英) | We demonstrate the photosensitivity of an extremely high index contrast Ta_2O_5-doped silica and SiON waveguide using an arrayed-waveguide grating multi/demultiplexer. We investigated the UV induced refractive index change and insertion loss increase. We also investigated their thermal relaxation. |
キーワード(和) | 石英 / 導波路 / 光回路 / PLC / 紫外光 / 光誘起 / 屈折率変化 / photosensitivity / AWG |
キーワード(英) | silica / waveguide / lightwave circuit / PLC / UV / index change / photosensitivity / AWG |
資料番号 | R2011-7,CPM2011-7,OPE2011-7 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | CPM |
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開催期間 | 2011/4/15(から1日開催) |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 超高Δ石英系導波路に於ける紫外光誘起屈折率変化(光部品・光デバイスの実装・信頼性,一般) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Photosensitivity in Extremely High Index Contrast Silica-based Waveguides on Si |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 石英 / silica |
キーワード(2)(和/英) | 導波路 / waveguide |
キーワード(3)(和/英) | 光回路 / lightwave circuit |
キーワード(4)(和/英) | PLC / PLC |
キーワード(5)(和/英) | 紫外光 / UV |
キーワード(6)(和/英) | 光誘起 / index change |
キーワード(7)(和/英) | 屈折率変化 / photosensitivity |
キーワード(8)(和/英) | photosensitivity / AWG |
キーワード(9)(和/英) | AWG |
第 1 著者 氏名(和/英) | 阿部 淳 / Makoto ABE |
第 1 著者 所属(和/英) | 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所 NTT Photonics Labs. NTT Corp. |
第 2 著者 氏名(和/英) | 伊東 雅之 / Masayuki ITOH |
第 2 著者 所属(和/英) | 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所 NTT Photonics Labs. NTT Corp. |
第 3 著者 氏名(和/英) | 小湊 俊海 / Toshimi KOMINATO |
第 3 著者 所属(和/英) | 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所 NTT Photonics Labs. NTT Corp. |
第 4 著者 氏名(和/英) | 那須 悠介 / Yusuke NASU |
第 4 著者 所属(和/英) | 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所 NTT Photonics Labs. NTT Corp. |
第 5 著者 氏名(和/英) | 井藤 幹隆 / Mikitaka ITOH |
第 5 著者 所属(和/英) | 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所 NTT Photonics Labs. NTT Corp. |
発表年月日 | 2011-04-22 |
資料番号 | R2011-7,CPM2011-7,OPE2011-7 |
巻番号(vol) | vol.111 |
号番号(no) | 15 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 5 |
発行日 |