| 講演名 | 2011-04-22 青色半導体レーザを用いたラインビーム生成(光部品・光デバイスの実装・信頼性,一般) 高橋 健一郎, 島川 修, 蟹江 智彦, 井上 享, |
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| 抄録(和) | 本論文では、光強度が均一なビームサイズ10μm×1,000μm,波長445nmの青色ラインビーム生成方法を提案する,光源には20台の半導体LDを、LD光の合成,光強度分布均一化にはロッドインテグレータとして平面導波路を適用した.光強度分布を均一にするため、平面導波路内に屈折率の異なる領域を付与したところ、その光強度分布はPV率(Peak to Valley率)で15%となった. |
| 抄録(英) | In this paper the authors propose a method to generate a line profile beam. The size of beam is 10μm×1,000μm and the wavelength is 445nm. We use 20 semiconductor lasers for laser source and a planar light wave circuit for power combiner and beam homogenizer. For uniform power distribution, we apply plural different refractive index regions into the core of planar light wave circuit. We successfully get a uniform optical power distribution line beam that has 15% of peak to valley ratio. |
| キーワード(和) | 半導体LD / ビーム整形 / ラインビーム / 平面導波路 |
| キーワード(英) | Semiconductor laser / Beam shaping / Line beam / Planar light wave circuit |
| 資料番号 | R2011-3,CPM2011-3,OPE2011-3 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2011/4/15(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 青色半導体レーザを用いたラインビーム生成(光部品・光デバイスの実装・信頼性,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Line beam generation by using blue laser diodes |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 半導体LD / Semiconductor laser |
| キーワード(2)（和/英） | ビーム整形 / Beam shaping |
| キーワード(3)（和/英） | ラインビーム / Line beam |
| キーワード(4)（和/英） | 平面導波路 / Planar light wave circuit |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 高橋 健一郎 / Kenichiro TAKAHASHI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 住友電気工業株式会社光通信研究所 Optical Communications R&D Laboratories, Sumitomo Electric Industries, Ltd. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 島川 修 / Osamu SHIMAKAWA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 住友電気工業株式会社光通信研究所 Optical Communications R&D Laboratories, Sumitomo Electric Industries, Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 蟹江 智彦 / Tomohiko KANIE |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 住友電気工業株式会社光通信研究所 Optical Communications R&D Laboratories, Sumitomo Electric Industries, Ltd. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 井上 享 / Akira INOUE |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 住友電気工業株式会社光通信研究所 Optical Communications R&D Laboratories, Sumitomo Electric Industries, Ltd. |
| 発表年月日 | 2011-04-22 |
| 資料番号 | R2011-3,CPM2011-3,OPE2011-3 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | 15 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
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