講演名 2011-03-28
半導体製造データ分析への無限隠れMarkov確率場モデルの応用(機械学習応用,テキスト・Webマイニング,一般)
新垣 隆生, 植野 研, 榊原 静,
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抄録(和) 半導体の製造プロセスはいくつもの検査プロセスを踏み,非常に時間とコストのかかるプロセスであり,検査コストの削減が望まれる.本報告では,Chatzis and Tsechpenakisで提案されている無限隠れMarkov確率場(Infinite Hidden Markov Random Field, iHMRF)モデルに基づいて,ウェハ上の限られた位置のチップ検査データから空間的な従属性を捉え,それ以外の位置に対する結果を推定する方法について述べる.この方法により,少数のチップのみ検査してそれ以外のチップの検査を省略することで検査コストの削減が期待される.
抄録(英) Semiconductor manufacturing is a time-consuming and costly process involving many test steps. In this paper, we apply an infinite hidden Markov random field model to some wafer bin map (WBM) data on the wafer and extract the whole spatial dependency on the wafer. Our method allows to test few chips on the wafer so that reduce the test cost.
キーワード(和) 半導体の製造プロセスはいくつもの検査プロセスを踏み,非常に時間とコストのかかるプロセスであり,検査コストの削減が望まれる.本報告では,Chatzis and Tsechpenakisで提案されている無限隠れMarkov確率場(Infinite Hidden Markov Random Field, iHMRF)モデルに基づいて,ウェハ上の限られた位置のチップ検査データから空間的な従属性を捉え,それ以外の位置に対する結果を推定する方法について述べる.この方法により,少数のチップのみ検査してそれ以外のチップの検査を省略することで検査コストの削減が期待される. / 半導体製造 / ウェハビンマップ
キーワード(英) infinite Hidden Markov Random Field / Semiconductor Manufacturing / Wafer Bin Maps
資料番号 IBISML2010-104
発行日

研究会情報
研究会 IBISML
開催期間 2011/3/21(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Information-Based Induction Sciences and Machine Learning (IBISML)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 半導体製造データ分析への無限隠れMarkov確率場モデルの応用(機械学習応用,テキスト・Webマイニング,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Infinite Hidden Markov Random Field Model and Its Application to Semiconductor Manufacturing Data
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 半導体の製造プロセスはいくつもの検査プロセスを踏み,非常に時間とコストのかかるプロセスであり,検査コストの削減が望まれる.本報告では,Chatzis and Tsechpenakisで提案されている無限隠れMarkov確率場(Infinite Hidden Markov Random Field, iHMRF)モデルに基づいて,ウェハ上の限られた位置のチップ検査データから空間的な従属性を捉え,それ以外の位置に対する結果を推定する方法について述べる.この方法により,少数のチップのみ検査してそれ以外のチップの検査を省略することで検査コストの削減が期待される. / infinite Hidden Markov Random Field
キーワード(2)(和/英) 半導体製造 / Semiconductor Manufacturing
キーワード(3)(和/英) ウェハビンマップ / Wafer Bin Maps
第 1 著者 氏名(和/英) 新垣 隆生 / Ryusei SHINGAKI
第 1 著者 所属(和/英) (株)東芝研究開発センターシステム技術ラボラトリー
System Engineering Laboratory, Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation
第 2 著者 氏名(和/英) 植野 研 / Ken UENO
第 2 著者 所属(和/英) (株)東芝研究開発センターシステム技術ラボラトリー
System Engineering Laboratory, Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation
第 3 著者 氏名(和/英) 榊原 静 / Shizu SAKAKIBARA
第 3 著者 所属(和/英) (株)東芝研究開発センターシステム技術ラボラトリー
System Engineering Laboratory, Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation
発表年月日 2011-03-28
資料番号 IBISML2010-104
巻番号(vol) vol.110
号番号(no) 476
ページ範囲 pp.-
ページ数 7
発行日