| 講演名 | 2010-12-19 高温管理下の透析用水製造工程における微生物制御の基礎検討 佐々木 雅浩, 菅原 俊継, 黒田 聡, 有澤 準二, 木村 主幸, |
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| 抄録(和) | 透析用水製造工程から分離した従属栄養細菌をRO水に接種し、適正増殖温度である25℃よりも高温の40℃および50℃にて培養し、3日間の増殖動態を比較し検討した。その結果、今回用いた従属栄養細菌は50℃で明らかに増殖を抑制できることが判明した。また、40℃にて増殖を抑制できる菌種も存在したが、増殖抑制の可能性については、低いと考えた。さらに、50℃で培養を行った従属栄養細菌に対して、高温処理を連続して 3 回行った結果、 1 菌種で回数を重ねるごとに生菌数の増加が見られた。このことは、従属栄養細菌に対して50℃という適正培養温度よりも高温度で処理すると、馴化する可能性が考えられた。以上のことから課題点はあるものの、50℃程度の高温管理がRO水中での従属栄養細菌の増殖制御に有効であることが示唆された。 |
| 抄録(英) | Three clinical isolates of heterotrophic bacteria were employed for analyses on those growth ability in a high temperature condition. During 3 days incubation on 40℃ and 50℃ in RO water or R2A liquid medium, the bacterial number was calculated by colony forming method using R2A agar plate. All of employed bacteria could not grow in 50℃ condition, whereas 2 strains showed markedly growth in 40℃ incubated condition. The heat stability or heat tolerance of heterotrophic bacteria was also investigated. One strain showed its growth ability when it was incubated in high temperature condition (50℃) repeated 3 times. From these observations, we demonstrated that a possibility of growth control against the heterotrophic bacteria colonisated in the dialysate producing process using high thermal regulation. |
| キーワード(和) | 高温 / RO水 / 従属栄養細菌 |
| キーワード(英) | high temperature / RO water / heterotrophic bacteria |
| 資料番号 | MBE2010-59,NC2010-70 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | NC |
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| 開催期間 | 2010/12/12(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Neurocomputing (NC) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 高温管理下の透析用水製造工程における微生物制御の基礎検討 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Control of microbial growth in dialys ate product process using a thermal regulation |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 高温 / high temperature |
| キーワード(2)（和/英） | RO水 / RO water |
| キーワード(3)（和/英） | 従属栄養細菌 / heterotrophic bacteria |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 佐々木 雅浩 / Masahiro Sasaki |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 北海道工業大学大学院工学研究科応用電子工学専攻 Division of Applied Electronics, Graduate School of Hokkaido Institute of Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 菅原 俊継 / Toshitsugu Sugawara |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 北海道工業大学医療工学部医療福祉工学科 Department of Clinical and Rehabilitation Engineering, Hokkaido Institute of Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 黒田 聡 / Satoshi Kuroda |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 北海道工業大学医療工学部医療福祉工学科 Department of Clinical and Rehabilitation Engineering, Hokkaido Institute of Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 有澤 準二 / Junji Arisawa |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 北海道工業大学医療工学部医療福祉工学科 Department of Clinical and Rehabilitation Engineering, Hokkaido Institute of Technology |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 木村 主幸 / Kazuyuki Kimura |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 北海道工業大学医療工学部医療福祉工学科 Department of Clinical and Rehabilitation Engineering, Hokkaido Institute of Technology |
| 発表年月日 | 2010-12-19 |
| 資料番号 | MBE2010-59,NC2010-70 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | 355 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |