講演名 2011-01-21
高周波成分を考慮したFace Hallucination法(MR/ARの実用化に向けたCV/PR技術の課題と展望)
笹谷 聡, 韓 先花, 大橋 基範, 岩本 祐太郎, 陳 延偉,
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抄録(和) 学習べース超解像処理の1つであるFace Hallucination法は,事例学習に基づき単一低解像度顔画像から高解像度顔画像を生成する手法である.この手法により生成した画像は高周波成分が欠落し本来の顔特徴が失われている可能性があり,何らかの方法で高周波成分を復元しなければならない.本発表では,高周波成分を考慮したFace Hallucination法を提案する.提案法は,以下の3つのステップからなる.(1).従来のFace Hallucination法により高解像度画像を生成する: (2).生成した高解像度画像をダウンサンプリングし,入力低解像度画像との残差画像を生成し,その残差画像から従来のFace Hallucination法で高解像度残差画像を生成する;(3).ステップ1で生成した高解像度画像にステップ 2で生成した高解像度残差画像を補填することでより鮮明な高解像度顔画像を生成する.
抄録(英) Face Hallucination method is one of learning-based super-resolution techniques, which can reconstruct a high-resolution image from only a single low-resolution image based on machine learning methods. However, it is difficult to reconstruct the detailed high-frequency components. In this paper, we proposed a high frequency compensated face hallucination method. The proposed method is a three-step method: (1) reconstruct a high-resolution image by using conventional face hallucination method; (2) calculate a low-resolution residual image between the input low-resolution image and the downsampled reconstructed high-resolution image and then reconstruct a high-resolution residual image by using the conventional face hallucination method; (3)compensate the high-resolution residual image to the reconstructed high-resolution image in step 1.
キーワード(和) Face Hallucination法 / 超解像技術 / 線形結合 / 主成分分析 / 残差画像
キーワード(英) Face Hallucination / Super-Resolution / Linear Combination / Principal Component Analysis / Residual Image
資料番号 PRMU2010-189,MVE2010-114
発行日

研究会情報
研究会 MVE
開催期間 2011/1/13(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Media Experience and Virtual Environment (MVE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 高周波成分を考慮したFace Hallucination法(MR/ARの実用化に向けたCV/PR技術の課題と展望)
サブタイトル(和)
タイトル(英) High Frequency Compensated Face Hallucination Method
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) Face Hallucination法 / Face Hallucination
キーワード(2)(和/英) 超解像技術 / Super-Resolution
キーワード(3)(和/英) 線形結合 / Linear Combination
キーワード(4)(和/英) 主成分分析 / Principal Component Analysis
キーワード(5)(和/英) 残差画像 / Residual Image
第 1 著者 氏名(和/英) 笹谷 聡 / So Sasatani
第 1 著者 所属(和/英) 立命館大学情報理工学部
Department of Science and Engineering, Ritsumeikan University
第 2 著者 氏名(和/英) 韓 先花 / Xian-Hua Han
第 2 著者 所属(和/英) 立命館大学情報理工学部
Department of Science and Engineering, Ritsumeikan University
第 3 著者 氏名(和/英) 大橋 基範 / Motonori Ohashi
第 3 著者 所属(和/英) 立命館大学情報理工学部
Department of Science and Engineering, Ritsumeikan University
第 4 著者 氏名(和/英) 岩本 祐太郎 / Yutaro Iwamoto
第 4 著者 所属(和/英) 立命館大学情報理工学部
Department of Science and Engineering, Ritsumeikan University
第 5 著者 氏名(和/英) 陳 延偉 / Yen-Wei Chen
第 5 著者 所属(和/英) 立命館大学情報理工学部
Department of Science and Engineering, Ritsumeikan University
発表年月日 2011-01-21
資料番号 PRMU2010-189,MVE2010-114
巻番号(vol) vol.110
号番号(no) 382
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日